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防反射膜、透鏡以及攝像裝置.pdf

摘要
申請專利號:

CN201580052924.9

申請日:

2015.09.07

公開號:

CN106796309A

公開日:

2017.05.31

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G02B 1/115申請日:20150907|||公開
IPC分類號: G02B1/115; B32B7/02; B32B17/00; C03C17/245; C03C17/34 主分類號: G02B1/115
申請人: 富士膠片株式會社
發明人: 高橋裕樹; 飯田毅
地址: 日本國東京都
優先權: 2014.09.30 JP 2014-202657
專利代理機構: 中科專利商標代理有限責任公司 11021 代理人: 王亞愛
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201580052924.9

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2018.11.06|||2017.06.23|||2017.05.31

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供一種耐磨性優異的防反射膜、透鏡以及攝像裝置。在光學基材(11)的表面成膜碳氫膜(17),作為以高折射率層發揮功能的第1層(12)。在第1層(12)上成膜折射率低于第1層(12)的折射率的MgF2膜(18),作為以低折射率層發揮功能的第2層(13)。通過相同的方法形成包括碳氫膜(17)的第3層(14)、包括MgF2膜(18)的第4層(15)、包括碳氫膜(17)的第5層(16)。利用RF磁控濺射裝置成膜碳氫膜(17)以及MgF2膜(18)。在成膜碳氫膜(17)時,將氬和氫的混合氣體供給至真空槽(22),將膜中的一部分C??C鍵取代為C??H鍵。通過C??H鍵獲得耐磨性以及粘附性優異的低折射率的防反射膜(10)。

權利要求書

1.一種防反射膜,其形成于基材,從所述基材依次交替重疊有高折射率層和折射率低
于所述高折射率層的折射率的低折射率層,其中,
所述高折射率層包括在波長10.5μm中的折射率為1.7以上且2.25以下的碳氫膜,
所述低折射率層包括氟化金屬的化合物膜,并且,
所述防反射膜是最上層包括所述碳氫膜的奇數層結構的防反射膜。
2.根據權利要求1所述的防反射膜,其中,
所述最上層的碳氫膜的含氫率ch在0[at.%]<ch≤7.5[at.%]的范圍內。
3.根據權利要求1或2所述的防反射膜,其中,
所述基材包括鍺的組成比和硒的組成比的和為60%以上的硫屬化合物玻璃。
4.根據權利要求2所述的防反射膜,其中,
所述基材包括鍺的組成比和硒的組成比的和為60%以上的硫屬化合物玻璃,是從所述
基材側依次為第1層至第5層的5層結構,
所述第1層為碳氫膜,光學膜厚在2700nm以上且3100nm以下的范圍內,
第2層為MgF2膜,光學膜厚在600nm以上且2100nm以下的范圍內,
第3層為碳氫膜,光學膜厚在300nm以上且1700nm以下的范圍內,
第4層為MgF2膜,光學膜厚在2200nm以上且3500nm以下的范圍內,
所述第5層為碳氫膜,光學膜厚在100nm以上且300nm以下的范圍內。
5.根據權利要求4所述的防反射膜,其中,
所述基材的波長10.5μm中的折射率在2.4以上且2.6以下的范圍內,波長區域為8μm以
上且14μm以下的范圍內的反射率為0.5%以下。
6.一種硫屬化合物玻璃透鏡,其具有權利要求1至5中任一項所述的防反射膜。
7.一種攝像裝置,其具備至少1片硫屬化合物玻璃透鏡,所述硫屬化合物玻璃透鏡具有
權利要求1至5中任一項所述的防反射膜。

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反射 透鏡 以及 攝像 裝置
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