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防反射膜、透鏡以及攝像裝置.pdf

摘要
申請專利號:

CN201580052923.4

申請日:

2015.09.07

公開號:

CN106796308A

公開日:

2017.05.31

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G02B 1/115申請日:20150907|||公開
IPC分類號: G02B1/115; B32B7/02; B32B17/06 主分類號: G02B1/115
申請人: 富士膠片株式會社
發明人: 高橋裕樹; 飯田毅
地址: 日本國東京都
優先權: 2014.09.30 JP 2014-202655
專利代理機構: 中科專利商標代理有限責任公司 11021 代理人: 王亞愛
PDF完整版下載: PDF下載
法律狀態
申請(專利)號:

CN201580052923.4

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2018.12.14|||2017.06.23|||2017.05.31

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供一種粘附性優異的防反射膜、透鏡以及攝像裝置。對光學基材(11)的表面成膜碳氫膜(16),作為以高折射率層發揮功能的第1層(12)。在第1層(12)上成膜折射率低于第1層(12)的折射率的MgF2膜(17),作為以低折射率層發揮功能的第2層(13)。通過相同的方法形成包括碳氫膜(16)的第3層(14)、包括MgF2膜(17)的第4層(15)。利用RF磁控濺射裝置成膜碳氫膜(16)以及MgF2膜(17)。在成膜碳氫膜(16)時,將氬和氫的混合氣體供給至真空槽(22),將膜中的一部分C??C鍵取代為C??H鍵。通過氫化而切斷一部分C??C鍵,從而能夠釋放通過C??C鍵積存的應變即應力。可以獲得粘附性優異并且無膜破壞的防反射膜(10)。

權利要求書

1.一種防反射膜,其設置于包括硫屬化物玻璃的基材的表面,從所述基材側依次具有
多個層,
與所述基材接觸的第1層包括碳氫膜。
2.根據權利要求1所述的防反射膜,其中,
所述碳氫膜的含氫率ch在0[at.%]<ch≤6.1[at.%]的范圍內。
3.根據權利要求1或2所述的防反射膜,
所述防反射膜具有第2層,所述第2層層疊于所述第1層,折射率低于所述第1層的折射
率。
4.根據權利要求3所述的防反射膜,
所述防反射膜交替地具有多個所述第1層以及所述第2層。
5.根據權利要求3或4所述的防反射膜,其中,
所述第2層的波長10.5μm中的折射率為1.5以下。
6.根據權利要求3至5中任一項所述的防反射膜,其中,
所述第2層包括MgF2膜。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的防反射膜,其中,
所述碳氫膜通過在含有H2的氣體氣氛中對碳靶進行濺射處理而成膜。
8.一種硫屬化物玻璃透鏡,其具有權利要求1至7中任一項所述的防反射膜。
9.一種攝像裝置,其具有至少1片權利要求8所述的硫屬化物玻璃透鏡。

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反射 透鏡 以及 攝像 裝置
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