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一種曝光裝置及曝光方法.pdf

摘要
申請專利號:

CN201510494605.5

申請日:

2015.08.12

公開號:

CN104991427A

公開日:

2015.10.21

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20150812|||公開
IPC分類號: G03F7/20 主分類號: G03F7/20
申請人: 京東方科技集團股份有限公司; 成都京東方光電科技有限公司
發明人: 彭川
地址: 100015北京市朝陽區酒仙橋路10號
優先權:
專利代理機構: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291 代理人: 黃志華
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201510494605.5

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2017.12.08|||2015.11.18|||2015.10.21

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及光刻技術領域,公開一種曝光裝置及曝光方法,曝光裝置包括機架和掩膜版,還包括:安裝于機架、以用于承裝基板的基板載臺,基板載臺由可形變的材料制備、以使基板載臺具有設定的變形量;間距測量模塊,用于測量基板與掩膜版之間曝光間距、且根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量;動作時驅動基板載臺變形的驅動模塊,驅動模塊與間距測量模塊信號相連、且根據曝光間距補償量驅動基板載臺變形、以將基板與掩模板之間的曝光間距調整至設定范圍內。在上述曝光裝置中,驅動模塊動作時,調整基板與掩膜版之間的距離,以調整曝光間距,因此,上述曝光裝置能夠進行曝光補償,使曝光間距都接近設定值,提高曝光質量。

權利要求書

權利要求書
1.  一種曝光裝置,包括機架和掩膜版,其特征在于,還包括:
安裝于所述機架、以用于承裝基板的基板載臺,所述基板載臺由可形變的材料制備、以使所述基板載臺具有設定的變形量;
間距測量模塊,用于測量所述基板與所述掩膜版之間曝光間距、且根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量;
用于驅動所述基板載臺變形的驅動模塊,所述驅動模塊與所述間距測量模塊信號相連、且根據所述曝光間距補償量驅動所述基板載臺變形、以調整所述基板與所述掩膜版之間的曝光間距。

2.  根據權利要求1所述的曝光裝置,其特征在于,所述間距測量模塊包括:
用于測量所述基板與所述掩膜版之間曝光間距的間距測量單元;
根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量的間距計算單元;
所述間距測量單元與所述間距計算單元信號連接。

3.  根據權利要求2所述的曝光裝置,其特征在于,所述驅動模塊包括:
安裝于所述機架、動作時驅動所述基板載臺整體升降的第一驅動部,所述第一驅動部與所述間距計算單元信號連接;
安裝于所述機架、動作時驅動所述基板載臺變形的第二驅動部,所述第二驅動部與所述間距計算單元信號連接。

4.  根據權利要求3所述的曝光裝置,其特征在于,所述第一驅動部位于所述基板載臺背離基板的一側,且所述基板載臺的四個角部中,每一個所述角部設有一個所述第一驅動部。

5.  根據權利要求3所述的曝光裝置,其特征在于,所述第二驅動部為多個,各所述第二驅動部位于所述基板載臺背離基板的一側、且呈陣列分布。

6.  根據權利要求5所述的曝光裝置,其特征在于,所述第二驅動部包括:
固定于所述基板載臺背離基板一側的楔形塊,所述楔形塊背離所述基板載臺的一面為斜面;
可相對所述機架沿垂直于所述曝光間距的方向滑動地安裝于所述機架、且朝向所述基板載臺的一面與所述楔形塊的斜面相抵的滑塊,當所述滑塊相對于所述機架滑動時驅動所述楔形塊沿所述曝光間距方向移動;
驅動所述滑塊運動的驅動機構。

7.  根據權利要求6所述的曝光裝置,其特征在于,所述驅動機構為伺服馬達。

8.  根據權利要求5所述的曝光裝置,其特征在于,所述間距測量單元為多個、且與所述第二驅動部一一對應,每一個所述間距測量單元用于檢測其對應的第二驅動部驅動的所述基板載臺的區域上基板的曝光間距。

9.  根據權利要求1所述的曝光裝置,其特征在于,所述基板載臺具有設定的變形量的范圍為10μm~100μm。

10.  根據權利要求1所述的曝光裝置,其特征在于,所述間距測量單元為位移傳感器。

11.  一種如權利要求1-10任一項所述的曝光裝置的曝光方法,其特征在于,包括:
所述間距測量單元測量所述基板與所述掩膜版之間曝光間距,所述間距計算單元根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量,且把曝光間距補償量信號傳輸至驅動模塊;
所述驅動模塊根據接收到的曝光間距補償量動作以驅動所述基板載臺動作以及變形,進行曝光間距補償,以使基板載臺上的基板所有區域的曝光間距值滿足設定的曝光間距控制范圍;
移開所述曝光間距測量單元;
對基板進行曝光處理;
控制驅動模塊復位,以使基板載臺形變恢復。

12.  根據權利要求11所述的曝光方法,其特征在于,當所述驅動模塊包括第一驅動部和第二驅動部時,所述第一驅動部驅動所述基板載臺整體移動,所述第二驅動部驅動所述基板載臺變形,直至基板所有區域的曝光間距滿足設定的曝光間距控制范圍時,所述第二驅動部動作停止,且所述第二驅動部保持在所述第二驅動部動作停止位置。

13.  根據權利要求11所述的曝光方法,其特征在于,在對基板進行曝光處理之前,還包括:
采集曝光機在曝光平面上的照度分布信息;
根據照度分布信息確定基板載臺變形量的預補償量,以使曝光機在曝光面上的照度分布信息滿足曝光需求。

14.  根據權利要求13所述的曝光方法,其特征在于,所述根據照度分布信息確定基板載臺變形量的預補償量,具體包括:
將采集的照度分布信息與設定的照度分布信息比對,對照度偏大的區域對應位置的曝光間距設置一個預補償量,使基板載臺根據上述預補償量進行變形調整后再次對采集的照度分布信息與設定的照度分布信息比對:
當采集的照度分布信息滿足曝光需求時,確定此時的預補償量為最終的預補償量;
當采集的照度分布信息不滿足曝光需求時,重復上述步驟直至采集的照度分布信息滿足曝光需求,并確定使采集的照度分布信息滿足曝光需求的預補償量為最終的預補償量。

說明書

說明書一種曝光裝置及曝光方法
技術領域
本發明涉及光刻技術領域,尤其涉及一種曝光裝置及曝光方法。
背景技術
目前,在液晶顯示器追求高分辨率、大尺寸和高品質的背景下,基板作為液晶顯示器的主要組成器件,基板的曝光對液晶顯示器的分辨率有重要影響,在基板的制作過程中,曝光設備用于基臺進行曝光,目前使用的曝光設備是曝光機,尤其是接近式曝光機。
曝光機曝光間距是接近式曝光保證分辨率和關鍵尺寸的最重要參數,而現有接近式曝光機對曝光間距的均一性保證由基板載臺平坦度和掩膜版彎曲度兩方面控制,但是現有的接近式曝光機中,少有涉及曝光間距均一性的專門控制,通常情況下基板載臺的平坦度和掩膜版的彎曲度作為接近式曝光機的一個基本工藝條件,在曝光開始之前要達到一定的水平,而基板載臺和掩膜版承載部一旦制作安裝完成,曝光機基板載臺的平坦度和掩膜版的彎曲度將無法改變,此時,曝光機無法在曝光過程中實時改變曝光間距,即無法進行曝光補償,影響基板的曝光質量。
發明內容
本發明提供一種曝光裝置及曝光方法,利用具有可形變的基板載臺和間距測量模塊,進行曝光補償,使曝光間距都接近設定值,以提高曝光質量。
為達到上述目的,本發明提供以下技術方案:
一種曝光裝置,包括機架和掩膜版,還包括:
安裝于所述機架、以用于承裝基板的基板載臺,所述基板載臺由可形變的 材料制備、以使所述基板載臺具有設定的變形量;
間距測量模塊,用于測量所述基板與所述掩膜版之間曝光間距、且根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量;
用于驅動所述基板載臺變形的驅動模塊,所述驅動模塊與所述間距測量模塊信號相連、且根據所述曝光間距補償量驅動所述基板載臺變形、以調整所述基板與所述掩膜版之間的曝光間距。
在上述曝光裝置中,間距測量模塊測量設置于基板載臺上的基板與掩膜版之間的曝光間距、并根據測量的曝光間距以及預先設定間距值計算出曝光間距補償量,驅動模塊在接收到間距測量模塊的動作信號后動作,根據曝光間距補償量驅動基板載臺變形,能夠調整設置于基板載臺上的基板與掩膜版之間的距離,從而調整曝光間距,直至曝光間距在可接受的范圍內,以實現對曝光間距的補償;基板載臺某一區域的曝光間距補償量為正時,此時,基板載臺此區域對應的基板與掩膜版之間的距離過大,因此,驅動模塊驅動基板載臺發生變形,以使基板載臺的該區域向著間距測量模塊運動,進而減小基板中與基板載臺該區域對應的部位與掩膜版之間的距離,直至曝光間距在可接受范圍內,曝光間距補償量減少至零時,驅動模塊動作停止,驅動模塊保持停留在停止動作時的位置;當基板載臺某一區域的曝光間距補償量為負時,此時,基板該區域與掩膜版之間的距離過小,曝光過度,驅動模塊先驅動基板載臺整體向遠離間距測量模塊的方向動作,進而使基板與掩膜版之間的距離增大,曝光間距增大,在該區域的曝光間距補償量為零時,驅動模塊再驅動基板載臺發生變形,以使基板載臺在曝光間距補償量為正的區域向著間距測量模塊運動,直至曝光間距在可接受范圍內,曝光間距補償量減小至零時,驅動模塊動作停止,驅動模塊保持停留在停止動作時的位置。
因此,上述曝光裝置能夠進行曝光補償,使曝光間距都接近設定值,以提高曝光質量。
優選地,所述間距測量模塊包括:
用于測量所述基板與所述掩膜版之間曝光間距的間距測量單元;
根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量的間距計算單元;
所述間距測量單元與所述間距計算單元信號連接。
優選地,所述驅動模塊包括:
安裝于所述機架、動作時驅動所述基板載臺整體升降的第一驅動部,所述第一驅動部與所述間距計算單元信號連接;
安裝于所述機架、動作時驅動所述基板載臺變形的第二驅動部,所述第二驅動部與所述間距計算單元信號連接。
優選地,所述第一驅動部位于所述基板載臺背離基板的一側,且所述基板載臺的四個角部中,每一個所述角部設有一個所述第一驅動部。
優選地,所述第二驅動部為多個,各所述第二驅動部位于所述基板載臺背離基板的一側、且呈陣列分布。
優選地,所述第二驅動部包括:
固定于所述基板載臺背離基板一側的楔形塊,所述楔形塊背離所述基板載臺的一面為斜面;
可相對所述機架沿垂直于所述曝光間距的方向滑動地安裝于所述機架、且朝向所述基板載臺的一面與所述楔形塊的斜面相抵的滑塊,當所述滑塊相對于所述機架滑動時驅動所述楔形塊沿所述曝光間距方向移動;
驅動所述滑塊運動的驅動機構。
優選地,所述驅動機構為伺服馬達。
優選地,所述間距測量單元為多個、且與所述第二驅動部一一對應,每一個所述間距測量單元用于檢測其對應的第二驅動部驅動的所述基板載臺的區域上基板的曝光間距。
優選地,所述基板載臺具有設定的變形量的范圍為10μm~100μm。
優選地,所述間距測量單元為位移傳感器。
一種曝光裝置的曝光方法,包括:
所述間距測量單元測量所述基板與所述掩膜版之間曝光間距,所述間距計算單元根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量,且把曝光間距補償量信號傳輸至驅動模塊;
所述驅動模塊根據接收到的曝光間距補償量動作以驅動所述基板載臺動作以及變形,進行曝光間距補償,以使基板載臺上的基板所有區域的曝光間距值滿足設定的曝光間距控制范圍;
移開所述曝光間距測量單元;
對基板進行曝光處理;
控制驅動模塊復位,以使基板載臺形變恢復。
優選地,當所述驅動模塊包括第一驅動部和第二驅動部時,所述第一驅動部驅動所述基板載臺整體移動,所述第二驅動部驅動所述基板載臺變形,直至基板所有區域的曝光間距滿足設定的曝光間距控制范圍時,所述第二驅動部動作停止,且所述第二驅動部保持在所述第二驅動部動作停止位置。
優選地,在對基板進行曝光處理之前,還包括:
采集曝光機在曝光平面上的照度分布信息;
根據照度分布信息確定基板載臺變形量的預補償量,以使曝光機在曝光面上的照度分布信息滿足曝光需求。
優選地,所述根據照度分布信息確定基板載臺變形量的預補償量,具體包括:
將采集的照度分布信息與設定的照度分布信息比對,對照度偏大的區域對應位置的曝光間距設置一個預補償量,使基板載臺根據上述預補償量進行變形調整后再次對采集的照度分布信息與設定的照度分布信息比對:
當采集的照度分布信息滿足曝光需求時,確定此時的預補償量為最終的預補償量;
當采集的照度分布信息不滿足曝光需求時,重復上述步驟直至采集的照度 分布信息滿足曝光需求,并確定使采集的照度分布信息滿足曝光需求的預補償量為最終的預補償量。
附圖說明
圖1為本發明提供的一種曝光裝置的結構示意圖;
圖2為本發明提供的一種曝光裝置的驅動模塊的結構示意圖;
圖3為本發明提供的一種曝光裝置的間距測量單元、第二驅動部及基板載臺的分布圖;
圖4為本發明提供的一種曝光裝置的第二驅動部一種優選地的分布圖;
圖5為本發明提供的一種曝光裝置的第二驅動部另一種優選地的分布圖;
圖6為本發明提供的一種曝光裝置的第二驅動部優選實施例的結構示意圖;
圖7為本發明提供的一種曝光裝置的曝光方法中所有位置的間距控制流程圖;
圖8為本發明提供的一種曝光裝置的曝光方法中單個位置的間距控制流程圖;
圖9為本發明提供的一種曝光裝置的曝光方法的流程圖;
圖10為本發明提供的一種關鍵尺寸補償方法流程圖。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
如圖1所示,本發明實施例提供的一種曝光裝置,包括機架和掩膜版1,還包括:
安裝于機架、以用于承裝基板2的基板載臺3,基板載臺3由可形變的材料制備、以使基板載臺3具有設定的變形量;
間距測量模塊5,用于測量基板2與掩膜版1之間曝光間距、且根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量;
用于驅動基板載臺3變形的驅動模塊4,驅動模塊4與間距測量模塊5信號相連、且根據曝光間距補償量驅動基板載臺3變形、以調整基板2與掩膜版1之間的曝光間距。
在上述曝光裝置中,間距測量模塊5測量設置于基板載臺3上的基板2與掩膜版1之間的曝光間距、并根據測量的曝光間距以及預先設定間距值計算出曝光間距補償量,驅動模塊4在接收到間距測量模塊5的動作信號后動作,根據曝光間距補償量驅動基板載臺3變形,能夠調整設置于基板載臺3上的基板2與掩膜版1之間的距離,從而調整曝光間距,直至曝光間距在可接受的范圍內,以實現對曝光間距的補償;基板載臺3某一區域的曝光間距補償量為正時,此時,基板載臺3此區域對應的基板2與掩膜版1之間的距離過大,因此,驅動模塊4驅動基板載臺3發生變形,以使基板載臺3的該區域向著間距測量模塊5運動,進而減小基板2中與基板載臺3該區域對應的部位與掩膜版1之間的距離,直至曝光間距在可接受范圍內,曝光間距補償量減少至零時,驅動模塊4動作停止,驅動模塊4保持停留在停止動作時的位置;當基板載臺3某一區域的曝光間距補償量為負時,此時,基板2該區域與掩膜版1之間的距離過小,曝光過度,驅動模塊4先驅動基板載臺3整體向遠離間距測量模塊5的方向動作,進而使基板2與掩膜版1之間的距離增大,曝光間距增大,在該區域的曝光間距補償量為零時,驅動模塊4驅動基板載臺3發生變形,以使基板載臺3在曝光間距補償量為正的區域向著間距測量模塊5運動,直至曝光間距在可接受范圍內,曝光間距補償量減小至零時,驅動模塊4動作停止,驅動模塊4保持停留在停止動作時的位置。
因此,上述曝光裝置能夠進行曝光補償,使曝光間距都接近設定值,以提 高曝光質量。
一種優選實施方式中,為了獲得曝光間距補償量,如圖1所示,間距測量模塊5包括:
用于測量基板2與掩膜版1之間曝光間距的間距測量單元51,由于基板2具有一定的面內厚度偏差,且具有一定的柔性,隨基板載臺3表面形貌而發生彎曲,故基板2與掩膜版1之間的距離不等,間距測量單元51位于掩膜版1上方,可以測量出不同位置時基板2與掩膜版1之間曝光間距;
根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量的間距計算單元52,在間距計算單元52中已經預先設定了間距值和曝光間距范圍,曝光間距補償量為曝光間距與預先設定間距值的差值;
間距測量單元51與間距計算單元52信號連接,間距測量單元51把測量到的基板2與掩膜版1之間曝光間距傳送到間距計算單元52中,間距計算單元52根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量。
在上述得到曝光間距補償量后,為了調整基板2與掩膜版1之間曝光間距,使曝光間距都接近設定值,一種優選實施方式中,如圖2所述,驅動模塊4包括:
安裝于機架、動作時驅動基板載臺3整體升降的第一驅動部41,第一驅動部41與間距計算單元52信號連接;
安裝于機架、動作時驅動基板載臺3變形的第二驅動部42,第二驅動部42與間距計算單元52信號連接。
間距計算單元52計算出曝光間距補償量為正時,當間距補償量均過大時,第一驅動部41驅動基板載臺3整體上升,以使基板載臺3向著間距測量單元51運動,進而減小基板2中與掩膜版1之間的距離,當曝光補償量減小至接近零時,第二驅動部42驅動基板載臺3發生變形,進而減小基板2中與基板載臺3該區域對應的部位與掩膜版1之間的距離,直至曝光間距在可接受范圍內,第一驅動部41和第二驅動部42動作停止,且保持停留在停止動作時的位置; 當曝光間距補償量為正,且曝光補償量接近零時,第二驅動部42驅動基板載臺3發生變形,進而減小基板2中與基板載臺3該區域對應的部位與掩膜版1之間的距離,直至曝光間距在可接受范圍內,第二驅動部42動作停止,且保持停留在停止動作時的位置。
間距計算單元52在計算出基板載臺3某一區域的曝光間距補償量為負時,第一驅動部41驅動基板載臺3整體下降,以使基板載臺3向著遠離間距測量單元51的方向運動,進而加大基板2中與掩膜版1之間的距離,曝光間距增大,在該區域的曝光間距補償量為正或者為零時,第二驅動部42驅動基板載臺3向遠離間距測量模塊5的方向動作,以使基板載臺在基板2與掩膜版1之間曝光間距補償量為正的區域向著間距測量單元51運動,直至曝光間距在可接受范圍內,第一驅動部41和第二驅動部42動作停止,且保持停留在停止動作時的位置。因此,第一驅動部41動作時驅動基板載臺3整體升降,對基板2與掩膜版1之間曝光間距進行整體初步調節,第二驅動部42動作時驅動基板載臺3變形,對基板2與掩膜版1之間曝光間距進行局部精準調節。
具體地,如圖2所示,第一驅動部41位于基板載臺3背離基板2的一側,且基板載臺3的四個角部中,每一個角部設有一個第一驅動部41,這種分布方式,能夠保證第一驅動部41在接收到間距計算單元52得出的曝光間距補償量后,整體移動基板載臺3,實現基板載臺3的在垂直于基板載臺3的方向上整體移動。
具體地,如圖3所示,第二驅動部42為多個,各第二驅動部42位于基板載臺3背離基板2的一側、且呈陣列分布,可以獲取曝光平面內各處的間距,對于整體間距補正提供測量數據,第二驅動部42位置6還可以如圖4進行分布,當曝光裝置為多個時,第二驅動部42位置6還可以如圖5進行分布。
為了實現第二驅動部42動作時驅動基板載臺3變形,一種優選實施方式中,如圖6所示,第二驅動部42包括:
固定于基板載臺3背離基板2一側的楔形塊7,楔形塊7背離基板載臺3 的一面為斜面,楔形塊7固定在基板載臺3上,基板載臺3隨著楔形塊7的運動而運動;
可相對機架沿垂直于曝光間距的方向滑動地安裝于機架、且朝向基板載臺3的一面與相抵的滑塊8,當滑塊8相對于機架滑動時驅動楔形塊7沿曝光間距方向移動,而楔形塊7固定在基板載臺3上,基板載臺3沿曝光間距方向移動,實現基板載臺3變形,以調節基板2與掩膜版1之間曝光間;
驅動滑塊8運動的驅動機構9,驅動機構9驅動滑塊8相對于機架滑動,由于楔形塊7的斜面與滑塊8相抵,滑塊8動作時驅動楔形塊7沿曝光間距方向移動,而楔形塊7固定在基板載臺3上,基板載臺3沿曝光間距方向移動,實現基板載臺3變形,以調節基板2與掩膜版1之間曝光間距。
具體地,所述驅動機構9為伺服馬達,伺服馬達能夠實現精準控制,以實現基板2與掩膜版1之間曝光間距進行局部精準調節。
一種優選實施方式中,如圖3所示,間距測量單元51為多個、且與第二驅動部42一一對應,每一個間距測量單元51用于檢測其對應的第二驅動部42驅動的基板載臺3的區域上基板2的曝光間距,第二驅動部42根據間距測量單元51測量的多個位置的測量反饋數據驅動基板載臺3變形,直至各個區域的間距值都在可接受范圍內。
一種優選實施方式中,基板載臺3具有設定的變形量的范圍為10μm~100μm,基板載臺3在外力的作用下發生形變,驅動基板載臺3升降以調節基板2與掩膜版1之間曝光間距,當驅動模塊4動作停止,驅動模塊4保持停留在停止動作時的位置,驅動模塊4離開基板載臺3后,基板載臺3表面形狀復原。
一種優選實施方式中,間距測量單元51為位移傳感器,通過測量間距測量單元51與掩膜版1、基板2之間的位移,以達到測量基板2與掩膜版1之間曝光間距的目的。
如圖7、圖8、圖9所示,本發明實施例提供的一種曝光裝置的曝光方法,包括:
間距測量單元51測量基板2與掩膜版1之間曝光間距,間距計算單元52根據測量的曝光間距以及預先設定的間距值計算出曝光間距補償量,且把曝光間距補償量信號傳輸至驅動模塊4;
驅動模塊4根據接收到的曝光間距補償量動作以驅動基板載臺3動作以及變形,進行曝光間距補償,以使基板載臺3上的基板所有區域的曝光間距值滿足設定的曝光間距控制范圍;
移開曝光間距測量單元51;
對基板2進行曝光處理;
控制驅動模塊4復位,以使基板載臺3形變恢復。
在上述曝光裝置的曝光方法中,基板2與掩膜版1之間的曝光間距通過間距測量單元51測量得到,間距據算單元52根據曝光間距和預先設定的間距值得出曝光間距補償量,驅動模塊4驅動基板載臺3動作,以調節基板2與掩膜版1之間的曝光間距,當曝光間距在控制范圍內時,驅動模塊4的動作停止,進行曝光,曝光結束后,驅動模塊4離開基板載臺3,基板載臺3恢復原有形狀。
因此,對曝光裝置事實上述曝光方法能夠進行曝光補償,使曝光間距都接近設定值,以提高曝光質量。
為了更加精準地調節基板2與掩膜版1之間曝光間距,一種優選實施方式中,如圖7、圖8所示,當驅動模塊4包括第一驅動部41和第二驅動部42時,第一驅動部41驅動基板載臺3整體移動,直至曝光間距在可接受范圍內,對基板2與掩膜版1之間曝光間距進行整體初步調節,第二驅動部42驅動基板載臺3變形,對基板2與掩膜版1之間曝光間距進行精準調節,直至基板2所有區域的曝光間距滿足設定的曝光間距控制范圍時,第二驅動部42動作停止,且第二驅動部42保持在第二驅動部42動作停止位置,進行曝光處理,在曝光結束后,第一驅動部41和第二驅動部42離開基板載臺3,基板載臺3恢復原有形狀。
一種優選實施方式中,如圖10所示,在對基板2進行曝光處理之前,還包括:
采集曝光機在曝光平面上的照度分布信息;
根據照度分布信息確定基板載臺3變形量的預補償量,以使曝光機在曝光面上的照度分布信息滿足曝光需求。
具體地,通過補償局部曝光間距,達到抵消照度分布帶來關鍵尺寸偏差的效果,如圖10所示,根據照度分布信息確定基板載臺3變形量的預補償量,包括:
將采集的照度分布信息與設定的照度分布信息比對,對照度偏大的區域對應位置的曝光間距設置一個預補償量,使基板載臺3根據上述預補償量進行變形調整后再次對采集的照度分布信息與設定的照度分布信息比對:
當采集的照度分布信息滿足曝光需求時,確定此時的預補償量為最終的預補償量;
當采集的照度分布信息不滿足曝光需求時,重復上述步驟直至采集的照度分布信息滿足曝光需求,并確定使采集的照度分布信息滿足曝光需求的預補償量為最終的預補償量。
若正常條件下,第一驅動部41或第二驅動部42理論上需要移動的動作量是間距計算單元52計算的曝光間距補償量,則實際第一驅動部41或第二驅動部42需要移動的動作量是曝光間距補償量+最終的預補償量。可以將基板載臺3的各局部控制部初始位置設置為最終的預補償量位置,基板2出現時,只需要移動曝光間距補償即可。也可以將基板載臺3的各局部控制部初始位置設置為原點位置,即無形變位置,基板2出現時,曝光間距補償量+最終的預補償量同時進行。
顯然,本領域的技術人員可以對本發明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和范圍。這樣,倘若本發明的這些修改和變型屬于本發明權利要求及其等同技術的范圍之內,則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。

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一種 曝光 裝置 方法
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