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黑矩陣曝光圖案的補正方法和裝置以及曝光系統.pdf

摘要
申請專利號:

CN201510444202.X

申請日:

2015.07.23

公開號:

CN104991424A

公開日:

2015.10.21

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20150723|||公開
IPC分類號: G03F7/20 主分類號: G03F7/20
申請人: 合肥京東方光電科技有限公司; 京東方科技集團股份有限公司
發明人: 李意峰; 張鶴群; 孟祥明; 邢宏偉
地址: 230012安徽省合肥市新站區銅陵北路2177號
優先權:
專利代理機構: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291 代理人: 黃志華
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201510444202.X

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2018.01.12|||2015.11.18|||2015.10.21

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及液晶顯示器制備工藝技術領域,公開了一種黑矩陣曝光圖案的補正方法和裝置以及曝光系統,用以提高補正精度,進而提高顯示面板的顯示效果。其中黑矩陣曝光圖案的補正方法,包括:獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與掩模板之間距離的間隙調整參數,其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內,回轉方向為工作臺繞支撐掩模板的基臺的中心軸旋轉的方向;根據第一方向和第二方向上的位移調整參數、角度調整參數以及間隙調整參數控制工作臺移動。

權利要求書

權利要求書
1.  一種黑矩陣曝光圖案的補正方法,其特征在于,包括:
獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與所述掩模板之間距離的間隙調整參數,其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內,所述回轉方向為所述工作臺繞支撐掩模板的基臺的中心軸旋轉的方向;
根據所述第一方向和第二方向上的位移調整參數、角度調整參數以及間隙調整參數控制所述工作臺移動。

2.  根據權利要求1所述的黑矩陣曝光圖案的補正方法,其特征在于,所述獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與所述掩模板之間距離的間隙調整參數包括:
獲取基板上的黑矩陣曝光圖案信息;
確定黑矩陣曝光圖案內的待修補區域,并確定曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與所述掩模板之間距離的間隙調整參數。

3.  根據權利要求2所述的黑矩陣曝光圖案的補正方法,其特征在于,所述確定黑矩陣曝光圖案內的待修補區域,確定曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與所述掩模板之間距離的間隙調整參數具體包括:
根據所述待修補區域對應的液晶盒的實際位置測量值與設計值之間的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移調整參數、角度調整參數以及間隙調整參數控制所述工作臺移動。

4.  根據權利要求1~3任一項所述的黑矩陣曝光圖案的補正方法,其特征在于,所述根據所述間隙調整參數控制所述工作臺移動具體包括:
根據所述間隙調整參數控制所述工作臺的支撐座的高度。

5.  一種黑矩陣曝光圖案的補正裝置,其特征在于,包括:
獲得模塊,用于獲得曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與所述掩模板之間距離的間隙調整參數,其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內,所述回轉方向為所述工作臺繞支撐掩模板的基臺的中心軸旋轉的方向;
處理模塊,用于根據所述第一方向和第二方向上的位移調整參數、角度調整參數以及間隙調整參數控制所述工作臺移動。

6.  根據權利要求5所述的黑矩陣曝光圖案的補正裝置,其特征在于,所述獲得模塊包括:
獲取模塊,用于獲取基板上的黑矩陣曝光圖案信息;
計算模塊,用于確定黑矩陣曝光圖案內的待修補區域,并確定曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與所述掩模板之間距離的間隙調整參數。

7.  根據權利要求6所述的黑矩陣曝光圖案的補正裝置,其特征在于,所述計算模塊具體用于:
根據所述待修補區域對應的液晶盒的實際位置測量值與設計值之間的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移調整參數、角度調整參數以及間隙調整參數控制所述工作臺移動。

8.  根據權利要求5~7任一項所述的黑矩陣曝光圖案的補正裝置,其特征在于,所述處理模塊具體用于:
根據所述間隙調整參數控制所述工作臺的支撐座的高度。

9.  一種曝光系統,包括:用于支撐基板的工作臺、位于所述工作臺上方、用于支撐掩模板的基臺,所述工作臺背離所述基板的一面設有多個支撐座,其特征在于,還包括:
控制裝置,用于獲取曝光裝置中用于支撐基板的工作臺在第一方向和第二方向上的位移調整參數、回轉方向上的回轉角度調整參數以及與所述掩模板之 間距離的間隙調整參數,其中第一方向和第二方向相互垂直且位于同一水平面內,所述回轉方向為所述工作臺繞支撐掩模板的基臺的中心軸旋轉的方向;
還用于根據所述第一方向和第二方向上的位移調整參數、角度調整參數以及間隙調整參數控制所述工作臺移動。

10.  根據權利要求9所述的曝光系統,其特征在于,還包括:
采集裝置,用于采集基板上的黑矩陣曝光圖案信息;
確定裝置,用于根據所述待修補區域對應的液晶盒的實際位置測量值與設計值之間的差值得到所述第一方向和第二方向上的位移調整參數、角度調整參數以及間隙調整參數控制所述工作臺移動。

關 鍵 詞:
矩陣 曝光 圖案 補正 方法 裝置 以及 系統
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