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描繪裝置.pdf

摘要
申請專利號:

CN201410482524.9

申請日:

2014.09.19

公開號:

CN104991421A

公開日:

2015.10.21

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20140919|||公開
IPC分類號: G03F7/20 主分類號: G03F7/20
申請人: 斯克林集團公司
發明人: 岸脅大介; 城田浩行; 重本憲
地址: 日本國京都府京都市
優先權: 2013-199333 2013.09.26 JP
專利代理機構: 隆天知識產權代理有限公司72003 代理人: 金相允; 向勇
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201410482524.9

授權公告號:

104991421B||||||

法律狀態公告日:

2017.06.23|||2015.11.18|||2015.10.21

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及描繪裝置。該描繪裝置的檢查部具有:光量傳感器,其在位于描繪光量測定位置時接受來自描繪頭的投影光學系統的光;采光頭,其插入在描繪頭的光路上,取得從光源朝向空間光調制設備的至少一部分光;束狀光纖以及檢查頭,將采光頭取得的光向位于中間光量測定位置的光量傳感器引導。這樣,在描繪裝置中,通過同一光量傳感器取得來自描繪頭的投影光學系統的光的光量和從描繪頭的光源和空間光調制設備之間取得的光的光量并進行比較。因此,即使光量傳感器的光學特性發生變化,也能夠高精度地檢測描繪頭的劣化因素。

權利要求書

權利要求書
1.  一種描繪裝置,對對象物照射光來描繪圖案,其特征在于,
具有:
描繪頭,其對對象物照射被空間調制后的光,
保持部,其保持所述對象物,并且使所述對象物相對于所述描繪頭移動,來使來自所述描繪頭的光的照射區域在所述對象物上掃描,
檢查部,其檢查所述描繪頭;
所述描繪頭具有:
光源,其射出光,
空間光調制設備,
照明光學系統,其將來自所述光源的光向所述空間光調制設備引導,
投影光學系統,其將通過所述空間光調制設備進行空間調制后的光向所述保持部引導;
所述檢查部具有:
光量傳感器,其在位于相對于所述描繪頭被決定的描繪光量測定位置時接受來自所述投影光學系統的光,
傳感器移動機構,其使所述光量傳感器在所述描繪光量測定位置與預先決定的中間光量測定位置之間移動,
采光頭,其插入在從所述光源至所述空間光調制設備為止的光路上,取得從所述光源朝向所述空間光調制設備的至少一部分光,
測定光學系統,其將被所述采光頭取得的光向位于所述中間光量測定位置的所述光量傳感器引導,
采光頭移動機構,其將所述采光頭插入在所述光路上,另外,使所述采光頭從所述光路上離開。

2.  根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
所述光量傳感器設置在所述保持部上,
從所述投影光學系統的前端至所述光量傳感器的受光面為止的距離等于從所述投影光學系統的所述前端至所述對象物的表面為止的距離,
所述傳感器移動機構使所述保持部相對于所述描繪頭移動。

3.  根據權利要求2所述的描繪裝置,其特征在于,
所述照明光學系統具有積分器,
所述采光頭插入在從所述積分器至所述空間光調制設備為止的光路上。

4.  根據權利要求3所述的描繪裝置,其特征在于,
從所述光源射出的光為紫外線光。

5.  根據權利要求4所述的描繪裝置,其特征在于,
所述空間光調制設備為將能夠變更朝向的多個微小鏡面排列在平面上的光學元件。

6.  根據權利要求5所述的描繪裝置,其特征在于,
所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量為,所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量的10%以上且100%以下。

7.  根據權利要求6所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有異常檢測部,所述異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量,檢測所述描繪頭是否異常。

8.  根據權利要求7所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有另一個異常檢測部,所述另一個異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和向所述光源供給的電流或電力,檢測所述描繪頭是否異常。

9.  根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
所述照明光學系統具有積分器,
所述采光頭插入在從所述積分器至所述空間光調制設備為止的光路上。

10.  根據權利要求9所述的描繪裝置,其特征在于,
從所述光源射出的光為紫外線光。

11.  根據權利要求10所述的描繪裝置,其特征在于,
所述空間光調制設備為將能夠變更朝向的多個微小鏡面排列在平面上的光學元件。

12.  根據權利要求11所述的描繪裝置,其特征在于,
所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量為,所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量的10%以上且100%以下。

13.  根據權利要求12所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有異常檢測部,所述異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量,檢測所述描繪頭是否異常。

14.  根據權利要求13所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有另一個異常檢測部,所述另一個異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和向所述光源供給的電流或電力,檢測所述描繪頭是否異常。

15.  根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
從所述光源射出的光為紫外線光。

16.  根據權利要求15所述的描繪裝置,其特征在于,
所述空間光調制設備為將能夠變更朝向的多個微小鏡面排列在平面上的光學元件。

17.  根據權利要求16所述的描繪裝置,其特征在于,
所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量為,所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量的10%以上且100%以下。

18.  根據權利要求17所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有異常檢測部,所述異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量,檢測所述描繪頭是否異常。

19.  根據權利要求18所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有另一個異常檢測部,所述另一個異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和向所述光源供給的電流或電力,檢測所述描繪頭是否異常。

20.  根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
所述空間光調制設備為將能夠變更朝向的多個微小鏡面排列在平面上的光學元件。

21.  根據權利要求20所述的描繪裝置,其特征在于,
所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量為,所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量的10%以上且100%以下。

22.  根據權利要求21所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有異常檢測部,所述異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量,檢測所述描繪頭是否異常。

23.  根據權利要求22所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有另一個異常檢測部,所述另一個異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和向所述光源供給的電流或電力,檢測所述描繪頭是否異常。

24.  根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量為,所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量的10%以上且100%以下。

25.  根據權利要求24所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有異常檢測部,所述異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量,檢測所述描繪頭是否異常。

26.  根據權利要求25所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有另一個異常檢測部,所述另一個異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和向所述光源供給的電流或電力,檢測所述描繪頭是否異常。

27.  根據權利要求1所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有異常檢測部,所述異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和所述光量傳感器接受的來自所述投影光學系統的光的光量,檢測所述描繪頭是否異常。

28.  根據權利要求27所述的描繪裝置,其特征在于,
所述檢查部還具有另一個異常檢測部,所述另一個異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學系統的光的光量和向所述光源供給的電流或電力,檢測所述描繪頭是否異常。

29.  根據權利要求1至28中任一項所述的描繪裝置,其特征在于,
還具有其它描繪頭,所述其它描繪頭具有與所述描繪頭相同的結構,
所述檢查部還具有:
其它采光頭,其插入在所述其它描繪頭的從光源至空間光調制設備為止 的光路上,取得從所述光源朝向所述空間光調制設備的至少一部分光,
其它測定光學系統,其將所述其它采光頭取得的光向位于所述中間光量測定位置的所述光量傳感器引導;
所述光量傳感器借助所述傳感器移動機構向相對于所述其它描繪頭被決定的其它描繪光量測定位置移動,在位于所述其它描繪光量測定位置時,接受來自所述其它描繪頭的投影光學系統的光。

30.  根據權利要求29所述的描繪裝置,其特征在于,
所述描繪光量測定位置、所述其它描繪光量測定位置以及所述中間光量測定位置配置在直線上。

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