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光學模塊.pdf

摘要
申請專利號:

CN201480010412.1

申請日:

2014.02.25

公開號:

CN105026975A

公開日:

2015.11.04

當前法律狀態:

實審

有效性:

審中

法律詳情: 實質審查的生效IPC(主分類):G02B 7/182申請日:20140225|||公開
IPC分類號: G02B7/182; G02B5/09; G02B26/08; G03F7/20 主分類號: G02B7/182
申請人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
發明人: J.霍恩; B.克瑙夫
地址: 德國上科亨
優先權: 102013203035.5 2013.02.25 DE; 61/768,652 2013.02.25 US
專利代理機構: 北京市柳沈律師事務所11105 代理人: 邱軍
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201480010412.1

授權公告號:

|||

法律狀態公告日:

2016.03.23|||2015.11.04

法律狀態類型:

實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及一種光學模塊,尤其是分面反射鏡,包括:光學元件(109);以及支撐結構(108),用于支撐光學元件(109),其中,支撐結構(108)包括定位裝置(111),用于以至少一個自由度主動地設定光學元件(109)的位置和/或取向。支撐結構(108)包括具有至少一個接觸單元(113.1)的可選擇性激活的接觸裝置(113),該至少一個接觸單元具有第一接觸部分(113.2),其中,在接觸裝置(113)的激活狀態下,第一接觸部分(113.2)接觸光學元件(109)的第二接觸部分(109.4),以對所述光學元件(109;209)施加接觸力,而在接觸裝置(113)的失活狀態下,第一接觸部分(113.2)從第二接觸部分(109.4)移除。

權利要求書

權利要求書
1.  一種光學模塊,尤其是分面反射鏡,包括:
-光學元件(109;209);以及
-支撐結構(108),支撐所述光學元件(109;209),其中,
-所述支撐結構(108)包括定位裝置(111),用于以至少一個自由度主動地設定所述光學元件(109;209)的位置和/或取向,
其特征在于,
-所述支撐結構(108)包括具有至少一個接觸單元(113.1;213.1;313.1)的可選擇性激活的接觸裝置(113;213;313),所述至少一個接觸單元具有第一接觸部分(113.2;213.2;313.2),其中,
-在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態下,所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)接觸所述光學元件(109;209)的第二接觸部分(109.4;209.4),以對所述光學元件(109;209)施加接觸力,以及
-在所述接觸裝置(113;213;313)的失活狀態下,所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)從所述第二接觸部分(109.4;209.4)移除。

2.  如權利要求1所述的光學模塊,其中,
-所述接觸裝置(113;213;313)設計成在所述激活狀態下對所述光學元件(109;209)和/或所述接觸單元(313.1)施加致動力,通過所述致動力,所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)和所述第二接觸部分(109.4;209.4)相互接觸,尤其保持相互接觸,
-所述接觸單元(113.1;213.2)尤其構造為基本靜止元件,所述光學元件(109;209)通過所述致動力而移動,
或者
-所述光學元件(209)尤其構造為在由所述定位裝置(111)設定的其位置和/或取向方面基本靜止的元件,所述接觸單元(313.1)通過所述致動力移動,所述接觸單元(313.1)尤其構造為雙穩定單元,在所述接觸裝置(313)的激活狀態和失活狀態下,所述雙穩定單元分別呈現出所述接觸單元(313.1)優選在不供給能量的情況下維持的穩定狀態。

3.  如權利要求1或2所述的光學模塊,其中,
-所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)具有第一接觸表面(113.3;213.3; 313.3),所述第二接觸部分(109.4;209.4)具有第二接觸表面(109.5;209.5),
-所述第一接觸表面(113.3;213.3;313.3)和所述第二接觸表面(109.5;209.5)互補地結構化,使得在由所述定位裝置(111)設定的至少一個位置和/或取向上,所述第一和第二接觸表面在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態下在至少一個明確鎖定方向上形成明確鎖定連接,
-所述第一接觸表面(113.3;213.3;313.3)和所述第二接觸表面(109.5;209.5)尤其互補地結構化,使得在由所述定位裝置(111)設定的多個分立位置和/或取向上,所述第一和第二接觸表面在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態下在至少一個明確鎖定方向上形成明確鎖定連接;
-兩個接觸表面(213.3,209.5;313.3,209.5)之一尤其具有至少一個凹陷(213.7,213.8),兩個接觸表面(213.3,209.5;313.3,209.5)中的另一個具有至少一個突出體(209.6,209.7),所述至少一個突出體相對于所述至少一個凹陷(213.7,213.8)互補地構造,以在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態下接合在所述至少一個凹陷中;
-兩個接觸表面(213.3,209.5;313.3,209.5)中的至少一個尤其在包含與所述接觸表面(213.3,209.5;313.3,209.5)正交的表面的截面中具有至少分段的多邊形截面輪廓。

4.  如權利要求3所述的光學模塊,其中,
-兩個接觸部分(213.2,209.4;313.2,209.4)之一,尤其是所述第一接觸部分(213.2;313.2)構造成至少分段地包括可結構化材料的可結構化接觸部分,所述可結構化材料在結構化之后能夠硬化,
-兩個接觸部分(213.2,209.4;313.2,209.4)中的另一個,尤其是所述第二接觸部分(209.4)構造為結構化接觸部分,所述結構化接觸部分至少分段地具有對于所述可結構化接觸部分的限定結構化而言足夠的硬度,以及
-所述可結構化接觸部分(213.2;313.2)在其可結構化狀態下已通過所述結構化接觸部分(209.4)結構化,以產生互補結構化的第一和第二接觸表面(213.3,209.5;313.3,209.5),并且在該結構化之后已經硬化,
-所述可結構化且可硬化材料在其可結構化狀態下尤其具有凝膠狀或蠟狀稠度;
-所述可結構化且可硬化材料在其可結構化狀態下尤其具有尺寸穩定性,在對應于重力加速度的至少100%、優選至少125%、更優選基本150% 的加速度的影響之后,所述尺寸穩定性足以獲得關于至少80%、優選地至少90%、更優選基本100%的所述結構化接觸部分(109.4;209.4)的尺寸保真度;
-所述可結構化且可硬化材料尤其包括來自由光刻膠材料、尤其能夠由UV光固化的多成分粘合劑、尤其能夠熱固化的粉末涂料構成的材料組的至少一種材料。

5.  如權利要求1至4任一項所述的光學模塊,其中,
-所述第一接觸部分(113.2)具有第一接觸表面(113.3),所述第二接觸部分(109.4)具有第二接觸表面(109.5),
-所述第一接觸表面(113.3)和所述第二接觸表面(109.5)構造成在由所述定位裝置(111)設定的至少一個位置和/或取向上,它們在所述接觸裝置(113)的激活狀態下在至少一個摩擦鎖定方向上形成摩擦鎖定連接,
-所述兩個接觸表面(113.3,109.5)中的至少一個尤其以至少分段平面的方式構造;
-所述兩個接觸表面(113.3,109.5)中的至少一個尤其以至少分段彎曲的方式構造。

6.  如權利要求5所述的光學模塊,其中,
-所述接觸裝置(113)構造成使得在所述接觸裝置(113)的激活狀態下,在所述摩擦鎖定方向上,可設定摩擦力充當抵抗所述定位裝置(111)的定位力的調節阻力,
-所述調節阻力尤其在所述接觸裝置(113)的激活狀態的設定狀態下減少,使得所述定位裝置(111)的定位力足以抵抗所述調節阻力而在所述兩個接觸表面(113.3,109.5)之間摩擦相對移動的情況下以至少一個自由度執行對所述光學元件(109)的設定,
-所述調節阻力尤其在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態的固定狀態下相對于所述設定狀態增加,使得所述定位裝置(111)的最大定位力不足以抵抗所述調節阻力而以至少一個自由度執行對所述光學元件(109;209)的設定。

7.  如權利要求1至6任一項所述的光學模塊,其中,
-所述光學元件(109;209)具有至少一個第一共振頻率,所述接觸單元(113.1;213.1;313.1)具有至少一個阻尼部分(113.6;213.6;313.6),所述至少 一個阻尼部分在所述至少一個第一共振頻率的范圍中有振動阻尼效果,所述第一共振頻率尤其為1Hz至2000Hz,優選地為50Hz至1500Hz,更優選地為200Hz至1000Hz,
和/或
-所述光學元件(109;209)通過支撐裝置支撐在所述支撐結構上,包括所述光學元件(109;209)和所述支撐裝置的布置具有至少一個第二共振頻率,所述接觸單元(113.1;213.1;313.1)具有至少一個阻尼部分(113.6;213.6;313.6),所述至少一個阻尼部分在所述至少一個第二共振頻率的范圍中有振動阻尼效果,所述第二共振頻率尤其為1Hz至2000Hz,優選地為50Hz至1500Hz,更優選地為200Hz至1000Hz。

8.  如權利要求1至7任一項所述的光學模塊,其中,
-所述光學元件(109;209)包括具有突出體(109.3)的元件體(109.2),
-所述元件體(109.2)具有光學有效表面(109.1),以及
-所述突出體(109.3)布置在所述元件體(109.2)的背離所述光學有效表面(109.1)的一側上,
-所述第二接觸部分(109.4;209.4)布置在所述突出體(109.3)的背離所述元件體(109.2)的一端,
-所述接觸裝置(113;213;313)尤其包括致動單元(113.4;213.4;313.4),在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態下,所述致動單元具有的效果是,對所述第二接觸部分(109.4;209.4)施加致動力,通過所述致動力,所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)和所述第二接觸部分(109.4;209.4)相互接觸,尤其保持相互接觸,所述致動單元(113.4;213.4;313.4)尤其根據靜電操作原理操作;
-所述定位裝置(111)尤其對所述第二接觸部分(109.4;209.4)施加定位力,所述定位裝置(111)尤其根據靜電操作原理操作。

9.  如權利要求1至8任一項所述的光學模塊,其中,
-提供主動釋放裝置(111),所述主動釋放裝置構造成在所述接觸裝置(113;213;313)通過第一釋放力失活之后,至少支持所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)和所述第二接觸部分(109.4;209.4)之間的接觸的釋放,
-所述光學元件(109;209)尤其通過支撐裝置(110)支撐在所述支撐結構(108)上,所述支撐裝置在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態下彈性變 形,使得其對所述光學元件(109;209)施加第二釋放力,所述第二釋放力至少支持所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)和所述第二接觸部分(109.4;209.4)之間的接觸的釋放;
-所述接觸單元(313.1)尤其具有釋放部分(318),在所述接觸裝置(313)的激活狀態下,所述釋放部分彈性變形,使得其對所述第一接觸部分(313.2)施加第三釋放力,所述第三釋放力至少支持所述第一接觸部分(313.2)和所述第二接觸部分(209.4)之間的接觸的釋放;
-所述釋放裝置尤其設計成將振動能引入所述光學元件(109;209)和/或所述接觸單元(113.1;213.1;313.1)中。

10.  如權利要求1至9任一項所述的光學模塊,其中,
-所述光學元件(109;209)是分面元件,尤其是分面反射鏡元件,具有光學有效表面(109.1),
-所述光學有效表面(109.1)尤其具有0.05mm2至2.0mm2、優選地0.15mm2至0.5mm2、更優選地0.2mm2至0.3mm2的面積,
和/或
-特別地,提供10000至1000000、優選50000至600000、更優選200000至500000個分面元件(109;209)。

11.  一種尤其用于微光刻的光學成像裝置,包括:
-照明裝置(102),具有第一光學元件組(106);
-掩模裝置(104),容納包括投射圖案的掩模(104.1);
-投射裝置(103),具有第二光學元件組(107);以及
-基板裝置(105),容納基板(105.1),
-所述照明裝置(102)設計成尤其以EUV范圍內的光照明所述投射圖案,以及
-所述投射裝置(103)設計成將所述投射圖案投射到所述基板(105.1)上,
其特征在于,
-所述照明裝置(102)和/或所述投射裝置(103)包括如權利要求1至10任一項的光學模塊(106.1;206.1;306.1)。

12.  一種支撐光學元件,尤其是分面反射鏡的分面元件的方法,其中,
-所述光學元件(109;209)由支撐結構(108)支撐,
-以至少一個自由度設定所述光學元件(109;209)的位置和/或取向,
其特征在于,
-可選擇性激活的接觸裝置(113;213;313)的第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)在所述接觸裝置(113;213;313)的激活狀態下與所述光學元件(109;209)的第二接觸部分(109.4;209.4)接觸,以對所述光學元件(109;209)施加接觸力,以及
-在所述接觸裝置(113;213;313)的失活狀態下,所述第一接觸部分(113.2;213.2;313.2)從所述第二接觸部分(109.4;209.4)移除。

13.  一種尤其用于微光刻的光學成像方法,其中,
-照明裝置(102)尤其以EUV范圍內的光照明投射圖案,以及
-投射裝置(103)將所述投射圖案投射到基板(105.1)上,
其特征在于,
-使用如權利要求12的方法支撐所述照明裝置(102)和/或所述投射裝置(103)的光學元件(109;209),尤其是分面反射鏡的分面元件。

14.  一種結構化如權利要求1至10任一項所述的光學模塊的接觸部分的方法,其中,
-所述兩個接觸表面(213.2,209.4;313.2,209.4)之一,尤其是第一接觸部分(213.2;313.2)構造為至少分段地包括可結構化材料的可結構化接觸部分,所述可結構化材料在結構化之后能夠硬化,
-所述兩個接觸部分(213.2,209.4;313.2,209.4)中的另一個,尤其是所述第二接觸部分(209.4)構造為結構化接觸部分,所述結構化接觸部分至少分段地具有對于所述可結構化接觸部分的限定結構化而言足夠的硬度,以及
-所述可結構化接觸部分(213.2;313.2)在其可結構化狀態下通過所述結構化接觸部分(209.4)結構化,以產生互補結構化的第一和第二接觸表面(213.3,209.5;313.3,209.5),并且在該結構化之后硬化。

15.  如權利要求14所述的方法,其中,
-所述可結構化且可硬化材料在其可結構化狀態下具有凝膠狀或蠟狀稠度,
和/或
所述可結構化且可硬化材料在其可結構化狀態下尤其具有尺寸穩定性,在對應于重力加速度的至少100%、優選至少125%、更優選基本150%的加速度的影響之后,所述尺寸穩定性足以獲得關于至少80%、優選地至少90%、更優選基本100%的所述結構化接觸部分(209.4)的尺寸保真度,
和/或
-所述可結構化且可硬化材料尤其包括來自由光刻膠材料、尤其能夠由UV光固化的多成分粘合劑、尤其能夠熱固化的粉末涂料構成的材料組的至少一種材料。

說明書

說明書光學模塊
技術領域
本發明涉及一種光學模塊、一種光學成像裝置、一種支撐光學元件的方法、一種光學成像方法及一種結構化光學模塊的接觸部分的方法。本發明可與任何期望光學裝置和光學成像方法結合應用。特別地,本發明可與用于生產微電子電路的微光刻技術結合使用。
背景技術
特別地,在微光刻領域,除了使用以最高可能精度構造的部件,此外還有必要在操作期間根據預定期望值盡可能精確地設定成像裝置的光學模塊(即,例如具有諸如透鏡元件、反射鏡或光柵的光學元件的模塊)的位置和幾何形狀,還有使用的掩模和基板的位置和幾何形狀,或者將這種部件穩定在預定位置或幾何形狀,以實現對應高成像質量。
在微光刻領域中,精度要求處于幾納米或更小數量級的微小范圍中。它們尤其是增加用于生產微電子電路的光學系統的分辨率的恒定需求的結果,以促進要生產的微電子電路的小型化。
隨著分辨率增加且使用的光的波長通常伴隨地減少,對使用的部件的定位和取向的精度的要求自然增加。尤其對于用于微光刻的UV范圍(例如,193nm的范圍)內的短工作波長,尤其在具有介于5nm和20nm之間的工作波長(通常在13nm的區域中)的所謂極UV范圍(EUV)中,這當然會影響為了遵守對所涉及部件的定位和/或取向的精度的嚴格要求而付出的努力。
然而,與光學系統的上述穩定性有關,處理在系統中產生或從外部引入系統中的振動能被證明是特別有問題的。通常用于解決該問題的一種方法在于主動地影響使用的單獨或多個系統部件(尤其是使用的光學元件)的位置和/或取向,以將相關部件保持在預定位置和/或預定取向。
與EUV系統的分面反射鏡的分面元件的限定定位和取向有關,DE 102 05 425 A1(Holderer等人)公開了單獨地調節所述分面元件,然后通 過對應固定力將它們保持在調節狀態,該申請的公開內容通過引用并入本文。
盡管在該情況下借助對應大小的固定力可以防止由于引入的振動能而產生的分面元件相對于其承載件的未對準,但是有問題的是,承載件本身會因引入的振動能而變形,使得分面元件可偏離它們在光束路徑中的期望位置和/或取向。
此外,主動影響成像系統的單獨或多個光學元件的位置和/或取向通常是期望的,以增加光學系統的靈活性。在這方面,再一次在EUV系統的情況下,尤其在照明裝置中,為了靈活的光瞳形成,期望使用具有大量可移動(通常可傾斜)微反射鏡或分面元件的分面反射鏡,那么當然要以高精度方式設定和保持分面反射鏡的相應位置和/或取向。
特別地,在這種EUV系統的情況下,特別有挑戰性的是在所述分面元件的非常小尺寸下實現大量分面元件的位置和/或取向的精確設定。在這方面,在這種EUV系統的分面反射鏡的情況下,分面元件的數量通常為幾十萬個分面元件的數量級,而單獨分面元件的光學有效表面的直徑通常為幾百微米的數量級。
例如從US 6,906,845 B2(Cho等人)中還已知包括幾十萬個微反射鏡的類似的微反射鏡陣列,該申請的公開內容通過引用并入本文。
發明內容
因此,本發明基于以下目的:提供一種包括光學元件的光學模塊、一種光學成像裝置、一種支撐光學元件的方法、一種光學成像方法及一種結構化光學模塊的接觸部分的方法,它們不具有上述缺點,或者至少在較小程度上具有上述缺點,并尤其確保以簡單方式可靠地定位和/或取向光學元件。
本發明基于這樣的見識,如果提供可選擇性激活的接觸裝置,則在極小空間中以簡單方式實現對可主動設定的光學元件、甚至尤其是極小分面元件的改進支撐及由此的光學元件在相應設定中的改進定位和/或取向,可選擇性激活的接觸裝置包括可選擇性地與光學元件的接觸部分接觸的接觸部分,以對光學元件的接觸部分施加接觸力。優選地維持接觸裝置的激活狀態及由此的接觸或接觸力,直到有必要重新調節(例如在校正期間實施)光 學元件的位置和/或取向或者光學模塊的操作結束為止。
對光學元件選擇性施加的接觸力使得可將光學元件保持在相應設定的位置和/或取向上。在該情況下,光學元件可通過接觸裝置充分牢固地固定。然而,還可通過至少一個阻尼部分(位于光學元件和/或接觸裝置的區域中)的對應振動阻尼構造來實現對引入光學元件中的振動的有目的的阻尼,或者減少、甚至可完全避免這種振動的引入。
為了在接觸裝置的接觸部分和光學元件的接觸部分之間產生接觸,可致動或移動接觸裝置或光學元件(或兩者)的接觸部分。在該情況下,可根據任意期望的操作原理以任意期望的方式產生致動力。優選地,以非接觸的方式產生致動力,以實現特別節省空間的構造。
因此,根據第一方面,本發明涉及一種光學模塊,尤其一種分面反射鏡,其包括光學元件和支撐光學元件的支撐結構,其中,支撐結構包括定位裝置,用于以至少一個自由度主動設定光學元件的位置和/或取向。支撐結構包括具有至少一個接觸單元的可選擇性激活的接觸裝置,接觸單元具有第一接觸部分,在接觸裝置的激活狀態下,第一接觸部分接觸光學元件的第二接觸部分,以對光學元件施加接觸力,在接觸裝置的失活狀態下,第一接觸部分從第二接觸部分移除。
根據另一方面,本發明涉及一種尤其用于微光刻的光學成像裝置,包括具有第一光學元件組的照明裝置、容納包括投射圖案的掩模的掩模裝置、具有第二光學元件組的投射裝置和容納基板的基板裝置,照明裝置設計成尤其以EUV范圍內的光照明投射圖案,投射裝置設計成將投射圖案投射到基板上。照明裝置和/或投射裝置包括根據本發明的光學模塊。
根據另一方面,本發明涉及一種支撐光學元件、尤其是分面反射鏡的分面元件的方法,其中,光學元件由支撐結構支撐,其中,以至少一個自由度設定光學元件的位置和/或取向。在接觸裝置的激活狀態下,可選擇性激活的接觸裝置的第一接觸部分與光學元件的第二接觸部分接觸,以對光學元件施加接觸力,而在接觸裝置的失活狀態下,第一接觸部分從第二接觸部分移除。
根據另一方面,本發明涉及一種尤其用于微光刻的光學成像方法,其中,照明裝置尤其以EUV范圍內的光照明投射圖案,投射裝置將投射圖案投射到基板上。使用根據本發明的方法支撐照明裝置和/或投射裝置的光學 元件、尤其是分面反射鏡的分面元件。
根據另一方面,本發明涉及一種結構化根據本發明的光學模塊的接觸部分的方法,其中,兩個接觸部分之一、尤其是第一接觸部分構造為至少分段地包括可結構化材料(在結構化之后可硬化)的可結構化接觸部分,而兩個接觸部分的另一個、尤其是第二接觸部分構造為至少分段地具有對于可結構化接觸部分的限定結構化而言足夠的硬度的結構化接觸部分。可結構化接觸部分在其可結構化狀態下通過結構化接觸部分而結構化,以產生互補結構化的第一和第二接觸表面,并在該結構化之后硬化。
從從屬權利要求和下面參考附圖對優選實施例的描述,本發明的其它優選構造變得顯而易見。所公開的特征的任意組合(不管是否在權利要求書中提到)都屬于本發明的主題。
附圖說明
圖1是根據本發明的光學成像裝置的優選實施例的示意圖,其包括根據本發明的光學模塊的優選實施例,其中應用根據本發明的支撐光學元件的方法的優選實施例;
圖2是圖1的根據本發明的光學模塊的示意性頂視圖;
圖3是(沿圖2的線III-III)穿過圖2的處于第一操作狀態的光學模塊的優選變型的一部分的示意性截面圖;
圖4是(沿圖2的線III-III)穿過圖3的處于第二操作狀態的光學模塊的一部分的示意性截面圖;
圖5是(沿圖2的線III-III)穿過圖3的處于第三操作狀態的光學模塊的一部分的示意性截面圖;
圖6是(沿圖2的線III-III)穿過圖2的處于第一操作狀態的光學模塊的另一優選變型的一部分的示意性截面圖;
圖7是圖6的細節VII的示意圖;
圖8是穿過圖6的處于第二操作狀態的光學模塊的一部分的示意性截面圖;
圖9是穿過圖6的處于第三操作狀態的光學模塊的一部分的示意性截面圖;
圖10(沿圖2的線III-III)穿過圖2的處于第一操作狀態的光學模塊的另 一優選變型的一部分的示意性截面圖;
圖11是穿過圖10的處于第二操作狀態的光學模塊的一部分的示意性截面圖;
圖12是穿過圖10的處于第三操作狀態的光學模塊的一部分的示意性截面圖。
具體實施方式
第一實施例
下面參考圖1至5描述根據本發明的光學成像裝置101的第一實施例。為了簡化對下面說明的理解,正交xyz-坐標系引入附圖中,其中,z方向與重力方向重合。然而,不必說,還可在本發明的其它變型中選擇該xyz坐標系或光學成像裝置的部件在空間中的任何其它取向。
圖1是用于生產微電子電路的微光刻裝置101形式的光學成像裝置的示意圖(未按比例)。成像裝置101包括照明裝置102和光學投射裝置103,光學投射裝置設計成在成像過程中將形成在掩模裝置104的掩模104.1上的投射圖案的像投射在基板裝置105的基板105.1上。為此,照明裝置102以照明光束(未更詳細示出)照明掩模104.1。然后,投射裝置103接收來自掩模104.1的投射光束(圖1中由線101.1表示),并將掩模104.1的投射圖案的像投射到基板105.1上,例如所謂的晶片等。
照明裝置102包括光學元件106的系統(圖1中僅高度示意性示出),此外,所述系統包括根據本發明的光學模塊106.1。如下面更詳細說明的,光學模塊106.1構造為分面反射鏡。光學投射裝置103包括光學元件107的另一系統,其包括多個光學模塊107.1。在此,光學系統106和107的光學模塊沿成像裝置101的折疊光軸101.1布置。
在所示示例中,成像裝置101以EUV范圍內的處于5nm和20nm之間的波長的光操作,更確切地,以約13nm的波長的光操作。結果,照明裝置102和投射裝置103中的光學元件僅構造為反射光學元件。然而,不必說,任意期望類型的光學元件(例如,折射、反射或衍射光學元件)可單獨地或以任意期望組合用在本發明的以其它波長操作的其它變型中。而且,投射裝置103還可包括根據本發明的另一光學模塊,例如具有另一分面反射鏡的形式。
如從圖2至5中可得出,分面反射鏡106.1包括支撐結構108,其支撐分面元件109形式的多個光學元件(圖3中僅示出單個)。為了清楚起見,圖2僅示出900個分面反射鏡109。然而,實際上,分面反射鏡106.1包括約400000個分面元件109,但是不必說,在本發明的其它變型中,不同數量的(任意)光學元件還可支撐在對應的支撐結構上。
應注意,在分面裝置中,優選提供盡可能多的分面元件以最大可能程度地實現光的均勻化。因此,特別地,在分面裝置中,提供優選10000至1000000、優選50000至600000、更優選200000至500000個分面元件。
在所示示例中,分面元件109布置成規則的矩形矩陣,使得小于0.05mm至0.02mm的窄間隙保留在它們之間,以實現輻射能的最小可能損失。然而,不必說,取決于成像裝置的光學要求,在本發明的其它變型中還可實現由支撐結構108支撐的光學元件的任何其它布置。
如從圖2至5中可得到,分面元件109具有反射的且由此光學有效的表面109.1。反射表面109.1形成在分面元件109的分面體109.2的前側,所述前側背離支撐結構108,面向照明光束。
分面元件109的光學有效表面109.1的表面面積優選地為0.05mm2至2.0mm2、更優選地為0.15mm2至0.5mm2。在本示例中,光學有效表面109.1的表面面積介于0.2mm2和0.3mm2之間,即0.25mm2。
在分面體109.2的后側(背離反射表面109.1),提供了柱形聯接元件109.3形式的突出體,利用該突出體,分面元件109經由連接裝置110連接到支撐結構108。在本示例中,連接裝置110構造為一方面連接到聯接元件109.3,另一方面連接到支撐結構108的彈性膜元件或片簧元件。
支撐結構108包括定位裝置111(圖3中僅高度示意性示出),從而以至少一個自由度主動地設定分面元件109的位置和/或取向。對于每個分面元件109,相關設定可單獨地執行。然而,在本發明的其它變型中,當然還可共同地設定分面元件109的任意形成的組(直到包括分面反射鏡106.1的所有分面元件109)。
利用定位裝置111,可設定期望多的自由度,直到包括空間中的所有六個自由度。然而,為了簡化設備,優選僅考慮那些對成像裝置101的成像誤差或成像質量有不可忽略的影響的自由度或者對成像誤差或成像質量的影響不能在光束路徑中的其它地方更簡單地補償的自由度。
在本示例中,利用定位裝置111,還可設定分面元件109繞y軸的旋轉自由度,即因此,分面元件109繞y軸傾斜。這可用在照明裝置102中的EUV范圍內的成像裝置的本示例中,例如用于光瞳變化或用于所謂的設定改變。
為此,定位裝置111設計成對分面元件109施加致動力FS或繞y軸的對應的定位力矩MS,以實現以期望自由度設定分面元件109。
在本示例中,這根據本發明的靜電原理以非接觸的方式發生。為此,舉例來說,定位電極111.1可設置在支撐結構108上,在分面元件109的區域中,該電極以由連接到定位裝置111的控制裝置112控制的方式建立對應電場,以對分面元件109產生定位力FS或定位力矩MS。
然而,不必說,在本發明的其它變型中,通過以非接觸的方式或替代地以觸覺方式操作或機械地連接到分面元件109的定位裝置,定位力FS或定位力矩MS還可以任意期望的其它方式產生。
支撐結構108還包括具有接觸單元113.1的可選擇性激活的接觸裝置113,其設計成在激活狀態下對分面元件109施加接觸力FK,而在失活狀態下不會對分面元件109施加這種接觸力FK或者不會與分面元件109處于這種機械相互作用中。
為此,接觸單元113.1包括第一接觸部分113.2,在接觸裝置113的激活狀態下,第一接觸部分接觸分面元件109的第二接觸部分109.4,使得接觸力FK作用在兩個接觸搭配件(contact partner)113.2和109.4之間(基本上垂直于其接觸表面,見圖4和5)。
如從圖3中可得出,第二接觸部分109.4布置在聯接元件109.3的自由端(背離分面體109.2)。在接觸裝置113的失活狀態(圖3所示)下,第二接觸部分109.4鄰近第一接觸部分113.2布置,使得在第一接觸部分113.2的第一接觸表面113.3和第二接觸部分109.4的第二接觸表面109.5之間形成具有最小間隙寬度Smin(垂直于第一接觸表面113.3)的窄間隙114。
在接觸裝置113的失活狀態下,間隙114或最小間隙寬度Smin至少足夠大,使得定位裝置111可調節分面元件109,而在第一接觸表面113.3和第二接觸表面109.5之間沒有可感知的接觸(或者由此得到的可感知的阻力(appreciable resistance))。
在本示例中,最小間隙寬度Smin為10μm。然而,不必說,在本發明 的其它變型中還可以選擇不同的最小間隙寬度Smin。優選地,最小間隙寬度Smin為0.1μm至10000μm,優選地為1μm至1000μm,更優選地為2μm至100μm。
如果接觸裝置113以由控制裝置112控制的方式激活,則接觸裝置113沿z軸對分面元件109施加致動力FB(見圖3),其使本示例中的分面元件109在連接裝置110彈性變形的情況下朝向(基本靜止的)接觸單元113.1移動,直到第一接觸表面113.3和第二接觸表面109.5在接觸力FK下互相承靠為止(如圖4和5對于分面元件109的兩個不同設定所示,以及由圖3中的虛輪廓115表示)。
由于接觸裝置根據靜電操作原理再次操作的事實,接觸裝置113在本示例中以非接觸方式通過致動裝置113.4施加致動力FB。為此,舉例來說,致動裝置113.4的致動電極113.5可設置在支撐結構108上,在分面元件109的區域中,該電極以由連接到接觸裝置113的控制裝置112控制的方式建立對應電場,以分別在分面元件109上產生致動力FB或者在第一接觸部分113.2和第二接觸部分109.4之間產生接觸力FK。
然而,不必說,在本發明的其它變型中,通過以非接觸的方式或替代地以觸覺方式操作或機械地連接到分面元件109的定位裝置,致動力FB或接觸力FK分別還可以任意的其它期望方式產生。
在本示例中,第一接觸表面113.3構造為基本平的表面,而第二接觸表面109.5構造為至少奇特的彎曲表面,其一個主曲率軸(principal curvature axis)基本上平行于y軸延伸(即,基本上平行于可設定的旋轉自由度的軸)。
如果分面元件109不意在以繞x軸的旋轉自由度設定,那么第二接觸表面109.5可以是奇特的彎曲表面,即基本柱形表面。在接觸裝置113的激活狀態下,那么呈現具有取決于兩個接觸搭配件113.2、109.4的硬度(以及當然,接觸力FK的幅度)的較大或較小面積的線性接觸區域。
然而,如果以繞x軸的旋轉自由度設定分面元件109預期也是可能的,那么,第二接觸表面109.5是雙曲面的,即基本橢圓或球形表面。在接觸裝置113的激活狀態下,那么呈現具有取決于兩個接觸搭配件113.2、109.4的硬度(以及,當然,接觸力FK的幅度)的較大或較小面積的點狀接觸區域。
第一接觸部分113.2和第二接觸部分109.4之間的接觸首先具有的優點 是,原則上,如此可實現來自分面元件109的熱量額外地消散進支撐結構108中。在該情況下,由于其相對于點狀接觸區域的較大空間范圍,線性接觸區域具有的優點是,其使得可改進從分面元件109到支撐結構108中的熱傳遞,使得再一次可實現來自分面元件109的熱量增加地消散進支撐結構108中。
而且,在接觸裝置113的激活狀態下,在平行于第一接觸表面113.3的至少一個摩擦鎖定方向上(即,在本示例中,在平行于xy平面的方向上,尤其平行于x軸的方向上)實現摩擦鎖定連接,結果,在由定位裝置111設定的分面元件109的相應位置和/或取向上,分面元件109保持在其位置,即使在引入分面元件109的振動的影響下也如此,只要振動能不超過特定閾值即可。所述閥值由接觸區域中的摩擦狀況(尤其是兩個接觸搭配件113.2、109.4之間的摩擦系數)和當前接觸力FK決定的當前靜摩擦力FHR限定。
僅當源自振動能并對分面元件109具有脫位效果的、平行于摩擦鎖定方向的力超過所述靜摩擦力(以及可能是定位裝置111的還額外具有效果的保持力)時,分面元件109才偏轉。結果,本發明因此首先使得可降低定位裝置111的保持力。
其次,通過兩個接觸搭配件113.2、109.4之間的接觸以及分面元件109在其相應設定中得到的固定,為了穩定該設定的目的,不必提供由補償振動影響的閉環控制控制的定位裝置111。因此,即使在操作期間發生的振動的高帶寬的情況下,也不需要具有對應高控制帶寬的閉環控制。確切地,在已進行分面元件109的設定之后,或者在重新設定分面元件109之前,接觸裝置113通過控制裝置112的簡單的激活或失活是足夠的。在該情況下,僅需要顯著較小的帶寬來驅動接觸裝置113。
在本示例中,第二接觸表面109.5的相應主曲率優選地適配于分面元件109的定位移動(通過定位裝置111產生),使得間隙114或最小間隙寬度Smin在每個設定中基本上保持不變。相應地,在激活接觸裝置113時,分面元件109在每個設定中朝向接觸單元113.1移動相同的距離,直到第一接觸表面113.3和第二接觸表面109.5在接觸力FK的作用下互相承靠為止。
然而,不必說,在本發明的其它變型中,第二接觸表面109.5的相應主曲率還可構造成使得間隙114或最小間隙寬度Smin隨著從分面元件109 的中立位置(圖3所示以及在圖4和5中分別由虛輪廓116和117所示)偏轉的增加而變化,以在接觸裝置113激活時,使分面元件109的移動對成像質量的非期望影響最小。在這方面,例如,可以提供的是,隨著從分面元件109的中立位置(圖3示出)偏轉的增加,間隙114或最小間隙寬度Smin至少分段地(section-wise)減少。同樣地,額外地或替代地,可以提供隨著偏轉增加而至少分段地增加。
在這時應提到的是,在本示例中選擇的在兩個接觸搭配件113.2、109.4之間的接觸區中僅具有摩擦鎖定連接的構造的優點是,可以執行分面元件109從其中立位置的任意期望設定或偏轉,而不會發生分面元件109的固定效果的可感知變化。
在本示例中,還提供的是,在接觸裝置113的激活狀態下,控制裝置112可改變接觸力FK,使得在摩擦鎖定方向上,可設定的靜摩擦力FHR或(一旦克服靜摩擦力FHR)可設定的滑動摩擦力FGR充當抵抗定位裝置的定位力FS的調節阻力。
從而,可減小在接觸裝置113的激活狀態的設定狀態下的調節阻力,使得定位裝置111的定位力FS足以抵抗調節阻力而在兩個接觸表面113.3、109.5之間的摩擦相對運動情況下執行分面元件109的設定。
在接觸裝置113的激活狀態的固定狀態下,調節阻力W那么可相對于設定狀態由控制裝置112增加,使得定位裝置111的最大定位力FSmax不再足以抵抗調節阻力W執行分面元件109的設定。
在本示例中,分面元件109還具有至少一個第一共振頻率,其處于約600Hz的范圍中。關于接觸單元的部分,接觸單元113.1具有阻尼部分113.6,其具有在第一共振頻率范圍中的振動阻尼效果,以使正好在分面元件的該臨界共振范圍中,振動對成像質量的影響最小。
而且,包括分面元件109和連接裝置110的布置具有至少一個第二共振頻率(為約750Hz)。阻尼部分113.6構造成其在所述第二共振頻率范圍中也具有振動阻尼效果,以使在包括分面元件109和連接裝置110的布置的該臨界共振范圍中,振動對成像質量的影響也最小。
然而,不必說,在本發明的其它變型中,分面元件109還可具有一個或多個其它第一共振頻率和/或一個或多個其它第二共振頻率,它們優選地為1Hz至2000Hz,優選地為50Hz至1500Hz,更優選地為200Hz至 1000Hz。
在本示例中,定位裝置111還構造成其可作為主動釋放裝置而運轉,主動釋放裝置支持在接觸裝置113通過第一釋放力FL1失活之后,第一接觸部分113.2和第二接觸部分109.4之間的接觸的釋放。在本示例中,這由于以下事實而發生:變化的(甚至可能交替的)定位力FS通過定位裝置111產生,即振動能由此以限定的方式引入分面元件109中。
所述第一釋放力FL1支持第二釋放力FL2(即,來自變形的連接裝置110的釋放恢復力),并幫助釋放或克服第一接觸部分113.2和第二接觸部分109.4之間的限制表面力(例如范德瓦爾斯力)。
在此不必說,在本發明的其它變型中,額外地或替代地,還可提供的是,在接觸裝置113失活之后,以其它方式支持釋放過程。在這方面,產生對應釋放力的對應釋放裝置可設置在接觸單元113.1的區域中。同樣地,額外地或替代地,致動裝置113.4可產生對應釋放力。
如已提到的,圖4和5示出對于分面元件109的兩個不同設定,例如,分面元件109從其中立位置(分別見圖4的輪廓116和圖5的輪廓117)的兩個相反的極限偏轉,接觸裝置113的激活狀態。不必說,在本示例中,取決于定位裝置111的設定分辨率,在這些極限位置之間可以實現所期望的盡可能多的中間狀態,使得分面元件109的特別靈敏設定是可能的。
第二實施例
下面參考圖1、2和6至9描述根據本發明的光學模塊206.1的另一優選實施例。光學模塊206.1可代替光學模塊106.1用在成像裝置101中。在其功能構造和功能方面,光學模塊206.1對應于圖3至5的光學模塊,所以,在此僅討論差別。特別地,相同的部件由相同的參考標號表示,而相同類型的部件由參考標號加上值100表示。除非在下文中另外說明,否則在所述部件的特征、功能和優點方面參考關于第一實施例的上述說明。
相對于圖3至5的實施例的本質差別在于接觸裝置213的構造,其中,在本示例中,第一接觸部分213.2的第一接觸表面213.3和第二接觸部分209.4的第二接觸表面209.5互補地結構化,使得在接觸裝置213的激活狀態下,所述接觸表面在圖8和9所示的分立設定情況下在至少一個明確 鎖定方向(在本示例中,平行于x軸的方向)上形成明確鎖定連接(positively locking connection)。
為此,第一接觸表面213.3具有兩個對應凹陷213.7和213.8,第二接觸表面209.5的互補構造的突出體209.6和209.7分別在各情況下在相應設定中(在接觸裝置213的激活狀態下)接合在凹陷中。
在本示例中,用于在激活狀態下產生明確鎖定連接的互補構造通過接觸表面213.3和209.5的相互對應互補的多邊形截面輪廓在包含與相應接觸表面(在本示例中為xz平面)正交的表面的截面中實現。
然而,不必說,在本發明的其它變型中,還可以提供接觸表面213.3和209.5的任意其它截面輪廓,只要接觸表面在相應設定中彼此互補地構造即可,使得它們在激活狀態下彼此接合,以在期望明確鎖定方向上實現明確鎖定連接。
而且,由于兩個接觸表面213.3和209.5的互補結構化,實現具有相對大面積的接觸區域。這具有的優點是,相對于第一實施例,進一步改進從分面元件209到支撐結構108中的熱傳遞,使得可再一次實現熱量從分面元件209到支撐結構108中的消散的增加。
兩個接觸表面213.3和209.5的互補結構化在本示例中通過第一接觸部分213.2構造為可結構化接觸部分來實現。為此,在位于阻尼部分213.6的面向分面元件209的一側的區域213.9中,第一接觸部分213.2由可結構化材料形成,可結構化材料在結構化之后可硬化。相比之下,第二接觸部分209.4構造為結構化接觸部分,其具有對于可結構化第一接觸部分213.2的限定結構化而言足夠的硬度。
為了實現第一接觸部分213.2的結構化,可結構化第一接觸部分213.2在其可結構化狀態下由結構化第二接觸部分209.4借助以下事實結構化,首先,定位裝置111將分面元件209帶至第一設定,然后,激活接觸裝置213,使得分面元件209與其第二接觸部分209.4一起壓入可結構化第一接觸部分213.2,直到實現圖8所示布置為止。
之后,使接觸裝置213失活,通過定位裝置111將分面元件209帶至第二設定,然后,再次激活接觸裝置213,使得分面元件209與其第二接觸部分209.4一起壓入可結構化第一接觸部分213.2中,直到實現圖9所示布置為止。
之后,第一接觸部分213.2的可結構化區域213.9硬化,以實現圖6至9所示的結構化第一接觸表面213.3,其具有足夠的硬度以能夠在期望明確鎖定方向上實現上述明確鎖定連接。
為了保證如此結構化的第一接觸部分213.2在該過程期間充分地維持其結構化,可結構化區域213.9的可硬化材料在可結構化狀態下具有凝膠狀或蠟狀稠度(gel-like or waxy consistency)。
在該情況下,本示例中的可結構化區域213.9的可硬化材料在可結構化狀態下具有尺寸穩定性,在對應于重力加速度的至少100%、優選至少125%、更優選地基本150%的加速度影響之后,所述尺寸穩定性足以獲得關于至少80%、優選地至少90%、更優選地基本100%的結構化接觸部分的尺寸保真度。
優選地,可硬化材料的尺寸穩定性選擇成使得在操縱期間可發生的直到材料最終硬化為止的所有加速度之下,所述材料維持關于結構化第二接觸部分209.4的尺寸保真度,其滿足期望的后續明確鎖定連接。
使用的可結構化且可硬化材料優選地是來自由光刻膠材料、尤其能夠由UV光固化的多成分粘合劑、尤其可熱固化的粉末涂料構成的材料組的至少一種材料。原則上,使用的光刻膠材料可以是任意期望的光刻膠,比如用在微系統工程中的,尤其用在半導體光刻中的。
然而,不必說,在本發明的其它變型中,還可以其它方式實施兩個接觸表面213.3和209.5的互補結構化。在這方面,舉例來說,兩個接觸表面213.3和209.5的作用可以互換,即,因此,第一接觸部分213.2可形成結構化接觸部分,而第二接觸部分209.4構造為可結構化接觸部分。同樣地,當然,還可提供這兩個變型的混合形式,其中,相應接觸部分部分地構造為可結構化接觸部分,部分地構造為結構化接觸部分。
同樣地,不必說,在本發明的其它變型中,還可通過分離的成形生產和/或通過任意期望初步形成的再做和/或材料移除和/或材料施加方法在各情況下單獨地產生兩個接觸表面213.3和209.5的互補結構化。
在本示例中,在成像裝置101操作期間,分面元件209具有圖8和9所示的兩個設定。因此,例如可實現開/閉功能,其中,例如在圖8的設定中的分面元件209傳遞照射光,使得其可用作本成像過程中的使用光,而照射光在圖9的設定中從使用的光束路徑移除。在本發明的避免損失光的 其它變型中,還可僅實現向不同使用區域的偏轉。
而且,不必說,在本發明的其它變型中還可以提供多于兩個的分立設定。當然,在該情況下,那么提供兩個接觸表面213.3和209.5的以明確鎖定方式彼此對應接合(在接觸裝置213的激活狀態下)的對應數量的部分。
第三實施例
下面參考圖1、2和10至12描述根據本發明的光學模塊306.1的另一優選實施例。光學模塊306.1可代替光學模塊106.1用在成像裝置101中。在其功能構造和功能方面,光學模塊306.1對應于圖6至9的光學模塊,所以在此僅討論差別。特別地,相同部分由相同的參考標號表示,而相同類型的部分由參考標號加上值100表示。除非在下文中另外說明,否則在所述部件的特征、功能和優點方面參考關于第二實施例的上述說明。
相對于圖6至9的實施例的本質差別再次在于接觸裝置313的構造。在這方面,在本示例中,接觸裝置313的接觸單元313.1確實同樣裝備有第一接觸部分313.2的第一接觸表面313.3,其以與第二實施例情況相同的方式相對于第二接觸部分209.4的第二接觸表面209.5互補地結構化,使得在接觸裝置313的激活狀態下,所述接觸表面在圖11和12所示的分立設定情況下,在至少一個明確鎖定方向(在本示例中,平行于x軸的方向)上形成明確鎖定連接。在這方面,明確地參考關于第二實施例的上述說明。
然而,在本示例中,分面元件209構造為在相應設定(由定位裝置111設定)中基本上靜止的元件。相比之下,在激活接觸裝置313(通過控制裝置112)時,致動裝置313.4沿z軸對接觸單元313.1施加致動力FB(見圖10),其使本示例中的接觸單元313.1在接觸單元313.1的承載件313.10彈性變形的情況下朝向(基本上靜止的)分面元件109移動,直到第一接觸表面313.3和第二接觸表面209.5在接觸力FK下相互承靠為止(如圖11和12對于分面元件209的兩個不同設定所示)。
在本示例中,承載件313.10構造成其在接觸裝置313的激活狀態(見圖11和12)和接觸裝置313的失活狀態(見圖10)下的(通過定位裝置111的)相應設定中呈現穩定狀態,所述承載件可僅通過施加的對應致動力FB從該穩定狀態移動。為此,承載體313.10構造為具有弓形或罐狀截面輪廓的雙穩定彈性元件(例如,膜狀或片簧狀元件)。
在本示例中,由于接觸裝置再一次根據靜電操作原理操作的事實,接觸裝置313再一次通過致動裝置313.4以非接觸的方式施加致動力FB。同樣地,額外地或替代地,當然還可提供以與接觸單元313.1或彈性承載件313.10直接機械連接而操作的致動機構。舉例來說,對應致動器(例如壓電致動器)可作用在彈性承載件313.10的位于接觸單元313.1和支撐結構108之間的區域上,以將對應彎曲力矩引入彈性承載件313.10中,以在彈性承載件313.10的兩個穩定端位置之間轉變。
該雙穩定構造的優點是,僅在彈性承載件313.10的兩個端位置之間轉變時施加能量,而在所有其它時刻不需要施加能量。這相對于將干擾熱能和隨后必須再次消散掉的熱能分別引入成像裝置101中是有利的。
不必說,這種雙穩定構造還可通過連接裝置110的對應構造在必要時在其它兩個實施例中實現。
同樣地,當然還可在第三實施例中提供作為簡單的膜狀或片簧狀元件的承載件的常規構造,如圖10中的虛輪廓318所示。在該情況下,那么對應致動力FB必須總是在激活狀態下施加,以實現接觸力FK。在該情況下,那么承載件318施加釋放力,釋放力隨后至少支持第一接觸表面313.3和第二接觸表面209.5之間的接觸的釋放。
或者,當然還可提供這樣的構造,其中,第一接觸表面313.3和第二接觸表面209.5之間的接觸在激活狀態下總是(即,不用供給能量)通過承載件的對應機械預應力實現,而在失活狀態下,必須在承載件進一步彈性變形的情況下施加對應致動力FB以釋放第一接觸表面313.3和第二接觸表面209.5之間的接觸。
已在上面僅基于分面反射鏡描述了本發明。然而,不必說,本發明還可與任何其它光學模塊和/或光學元件結合使用。
而且,上面僅基于微光刻領域的示例描述了本發明。然而,不必說,本發明還可與任何其它光學應用(尤其是其它波長的成像方法)結合使用。

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