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一種用于半導體光刻的多功能高產能吸盤.pdf

摘要
申請專利號:

CN201510253487.9

申請日:

2015.05.18

公開號:

CN104914679A

公開日:

2015.09.16

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):G03F 7/20申請日:20150518|||公開
IPC分類號: G03F7/20; F16B47/00 主分類號: G03F7/20
申請人: 合肥芯碩半導體有限公司
發明人: 宋耀東; 項宗齊; 方林; 何少鋒
地址: 230601安徽省合肥市經濟技術開發區錦繡大道68號
優先權:
專利代理機構: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司34112 代理人: 余成俊
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201510253487.9

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2018.11.20|||2015.10.14|||2015.09.16

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明公開了一種用于半導體光刻的多功能高產能吸盤,包括有下吸盤,下吸盤上固定有上吸盤,上吸盤上設有十字定位槽,十字定位槽內嵌裝有十字定位支架;十字定位支架的正面中心設有十字凸起,所述十字定位槽的槽底開有與十字凸起位置對應的十字凹槽;十字定位支架背面朝上時,其頂面與上吸盤表面位于同一水平面上或位于十字定位槽內;十字定位支架正面朝上時,十字凸起部位高出十字定位槽外。

權利要求書

權利要求書
1.  一種用于半導體光刻的多功能高產能吸盤,其特征在于:包括有下吸盤,下吸盤上固定有上吸盤,上吸盤上設有十字定位槽,十字定位槽內嵌裝有十字定位支架;十字定位支架的正面中心設有十字凸起,所述十字定位槽的槽底開有與十字凸起位置對應的十字凹槽;十字定位支架背面朝上時,其頂面與上吸盤表面位于同一水平面上或位于十字定位槽內;十字定位支架正面朝上時,十字凸起部位高出十字定位槽外。

2.  根據權利要求1所述的一種用于半導體光刻的多功能高產能吸盤,其特征在于:所述十字定位槽位于上吸盤的中心位置。

3.  根據權利要求1所述的一種用于半導體光刻的多功能高產能吸盤,其特征在于:上吸盤表面開有若干能配合標示出不同規格樣片邊緣位置的銷釘孔。

關 鍵 詞:
一種 用于 半導體 光刻 多功能 產能 吸盤
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本文標題:一種用于半導體光刻的多功能高產能吸盤.pdf
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