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含AU碘系蝕刻液的處理方法以及處理裝置.pdf

摘要
申請專利號:

CN201480021400.9

申請日:

2014.05.20

公開號:

CN105164317A

公開日:

2015.12.16

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):C23F 1/46申請日:20140520|||公開
IPC分類號: C23F1/46; C25C1/00; C25C1/20 主分類號: C23F1/46
申請人: 朝日浦力環境科技有限公司
發明人: 古堅千繪; 小久保広宣
地址: 日本兵庫縣
優先權: 2013-116205 2013.05.31 JP
專利代理機構: 北京潤平知識產權代理有限公司11283 代理人: 劉兵; 嚴政
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201480021400.9

授權公告號:

||||||

法律狀態公告日:

2016.11.02|||2016.02.17|||2015.12.16

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供一種能夠以高回收率從使用完的碘系蝕刻液中回收Au,并且恢復碘(I3-)濃度,實現蝕刻能力的再生的技術。該方法為通過電解回收含Au碘系蝕刻液中的Au,并且恢復碘(I3-)濃度的蝕刻液的處理方法,其中,所述電解在將陰極電位維持在-0.7V以上(基準電位為參照電極Ag/AgCl時)、以及將陽極電位維持在+1.0V以下(基準電位為參照電極Ag/AgCl時)下進行。

權利要求書

權利要求書
1.  一種含Au碘系蝕刻液的處理方法,該方法為通過電解回收含Au碘系蝕刻液中的Au,并且恢復碘(I3-)濃度的蝕刻液的處理方法,其特征在于,
所述電解在將陰極電位維持在-0.7V以上(基準電位為參照電極Ag/AgCl時)、以及將陽極電位維持在+1.0V以下(基準電位為參照電極Ag/AgCl時)下進行。

2.  根據權利要求1所述的處理方法,其中,所述電解是陰極和陽極被隔膜隔開的隔膜電解。

3.  根據權利要求2所述的處理方法,其中,所述隔膜電解是從所述含Au碘系蝕刻液的供給源向被所述隔膜隔開了的陰極側連續地供給所述含Au碘系蝕刻液并回收Au后,向被所述隔膜隔開了的陽極側供給,使碘(I3-)濃度恢復的方法,
將被所述隔膜隔開了的陰極側的碘調整到不產生在陰極析出的Au的再溶解的濃度范圍。

4.  根據權利要求3所述的處理方法,其中,使向被所述隔膜隔開了的陰極側供給的含Au碘系蝕刻液的供給量以滿足下述式(1)的方式進行調整,
電流(A(安培))>I3-濃度A×供給量B×F…(1)
(式中,
I3-濃度A:向陰極側供給的含Au碘系蝕刻液的碘(I3-)濃度(mol/L)、
供給量B:含Au碘系蝕刻液向陰極側的供給量(L/sec)、
F:法拉第常數(A(安培)·sec/mol))。

5.  一種含Au碘系蝕刻液的處理裝置,該裝置為用于通過電解回收含Au碘系蝕刻液中的Au、并且恢復碘(I3-)濃度的裝置,其特征在于,該裝置包括:
電解用的陰極以及陽極;
作為所述陰極或者所述陽極的電極電位的基準的參照電極;以及
基于利用所述參照電極測定的電位,以使設置所述參照電極的一側的電極電位在規定范圍的方式來控制電流或者電極間電壓的電源,
未設置所述參照電極的一側的電極具有調整電極電位為規定范圍的物理單元。

6.  根據權利要求5所述的含Au碘系蝕刻液的處理裝置,其中,所述物理單元為調整未設置所述參照電極的一側的電極和液體的接觸面積的單元。

關 鍵 詞:
AU 蝕刻 處理 方法 以及 裝置
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