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乙烯低聚成1己烯和1辛烯的混合物的低聚方法.pdf

摘要
申請專利號:

CN201480026357.5

申請日:

2014.05.06

公開號:

CN105228974A

公開日:

2016.01.06

當前法律狀態:

實審

有效性:

審中

法律詳情: 實質審查的生效IPC(主分類):C07C 2/36申請日:20140506|||公開
IPC分類號: C07C2/36; C08F10/00; C07C11/107; C07C11/02 主分類號: C07C2/36
申請人: 沙索技術有限公司
發明人: M·M·莫格若思; M·克里斯托弗·莫梅拉; M·J·歐沃雷特
地址: 南非羅斯班克
優先權: 2013.05.09 ZA 2013/03374
專利代理機構: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 代理人: 呂艷英;張穎玲
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201480026357.5

授權公告號:

|||

法律狀態公告日:

2016.02.03|||2016.01.06

法律狀態類型:

實質審查的生效|||公開

摘要

一種使乙烯低聚(優選四聚)的方法,乙烯主要低聚成1-己烯或1-辛烯,或者1-己烯和1-辛烯的混合物,所述方法包括在乙烯低聚條件下使乙烯與催化劑接觸。所述催化劑包括鉻源、二膦配位化合物和可選的活化劑。二膦配位化合物包括至少一個與磷原子鍵合的被取代的芳環。被取代的芳環在與相應的磷原子鍵合的環原子鄰接的環原子處被基團Y取代,其中,Y具有-AREWG形式,A是O、S或NR5,其中R5是烴基、雜烴基或有機雜原子基團,而REWG是吸電子基團。

權利要求書

權利要求書
1.  一種使乙烯低聚的方法,乙烯主要低聚成1-己烯或1-辛烯,或者1-己烯和1-辛烯的混合物,所述方法包括在乙烯低聚的條件下使乙烯與催化劑接觸,所述催化劑包括:
i)鉻源;
ii)以下通式的配位化合物
R1R2P1XP2R3R4
其中,P1和P2為磷原子;
X為P1和P2之間的連接基團;以及
R1~R4獨立地為烴基、有機雜原子基團或雜烴基,其中,R1、R2、R3和R4中的至少一個包括與P1或P2直接鍵合的被取代的芳環,該被取代的芳環在與P1或P2鍵合的環原子鄰接的環原子處被Y取代基取代,其中Y能被表示為:

其中,A選自由O、S和NR5組成的組,其中R5是烴基、雜烴基或有機雜原子基團;并且
REWG是吸電子基團;以及
iii)可選地,催化劑活化劑或者催化劑活化劑的組合。

2.  根據權利要求1所述的方法,其中,R1~R4都包括與P1或P2直接鍵合的芳族部分或雜芳族部分。

3.  根據權利要求1或權利要求2所述的方法,其中,R1~R4基團中的至少一個是被取代的苯基,而R1~R4基團中的其余基團都是可選被取代的苯基。

4.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,R1~R4基團的被Y取代的芳環選自由苯基、吡啶基、呋喃基、噻吩基、咪唑基、吡唑基和噁唑基組成的組。

5.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,所述被Y取代的芳環 是苯基,其中所述Y取代基將位于與P1或P2鍵合的碳環原子的鄰位。

6.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,A是O或S。

7.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,REWG具有大于+0.15的Hammettσp值。

8.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,REWG選自包括鹵素取代的烷基、鹵素取代的環烷基、鹵素取代的芳基、雜芳基、-SO2R6、-(C=O)R6、-CN的組,其中,R6是氫、烴基或雜烴基。

9.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,REWG選自包括鹵素取代的烷基、鹵素取代的環烷基、鹵素取代的芳基和雜芳基的組。

10.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,REWG選自包括氟取代的烷基、氟取代的環烷基和氟取代的芳基的組。

11.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,REWG是氟取代的烷基,其中至少一個氟原子鍵合到與A鍵合的碳原子。

12.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,REWG選自包括氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、1,1’-二氟乙基、氯二氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基等的組。

13.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,REWG是三氟甲基。

14.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,R1~R4中不超過兩個基團包括被所述Y取代基取代的芳環。

15.  根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中,R1、R2、R3和R4中只有一個基團包括被所述Y取代基取代的芳環。

關 鍵 詞:
乙烯 低聚成 己烯 辛烯 混合物 方法
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