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再造耳廓位置的定位方法.pdf

摘要
申請專利號:

CN201310245626.4

申請日:

2013.06.20

公開號:

CN103284834B

公開日:

2014.12.24

當前法律狀態:

終止

有效性:

無權

法律詳情: 未繳年費專利權終止號牌文件類型代碼:1605號牌文件序號:101673692897IPC(主分類):A61F 11/00專利號:ZL2013102456264申請日:20130620授權公告日:20141224終止日期:20150620|||授權|||實質審查的生效IPC(主分類):A61F 11/00申請日:20130620|||公開
IPC分類號: A61F11/00; A61F2/50 主分類號: A61F11/00
申請人: 蘇法仁
發明人: 蘇法仁
地址: 250014 山東省濟南市歷下區漿水泉路12-8號武警醫院耳鼻咽喉頭頸外科
優先權:
專利代理機構: 濟南泉城專利商標事務所 37218 代理人: 張貴賓
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201310245626.4

授權公告號:

|||103284834B||||||

法律狀態公告日:

2016.08.10|||2014.12.24|||2013.10.16|||2013.09.11

法律狀態類型:

專利權的終止|||授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明涉及一種定位方法,特別公開了一種再造耳廓位置的定位方法。該再造耳廓位置的定位方法,其特征在于:以健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣三點為一垂直直線為基礎,沿該垂直直線在人的頭部表面畫出該直線所在的冠狀切面的切邊,在人頭部上畫出垂直冠狀切面的健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣所在的水平定位線,該定位線線與切邊的交點即為患側再造耳廓的耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣的固定位置。本發明步驟簡單,操作方便,定位準確無誤差,定位過程中對人體沒有損害和影響,所需工具更為容易獲得,適于廣泛推廣應用。

權利要求書

權利要求書
1.   一種再造耳廓位置的定位方法,其特征在于:以健耳耳輪腳前緣(A)、耳屏前緣(B)和耳垂前緣(E)三點為一垂直直線為基礎,沿該垂直直線在人的頭部表面畫出該直線所在的冠狀切面的切邊(D),使人的頭部處于端正的狀態,在人頭部上畫出垂直冠狀切面的健耳耳輪腳前緣(A)、耳屏前緣(B)和耳垂前緣(E)所在的水平定位線,該定位線線與切邊(D)的交點即為患側再造耳廓的耳輪腳前緣(A)、耳屏前緣(B)和耳垂前緣(E)的固定位置。

2.   根據權利要求1所述的再造耳廓位置的定位方法,其特征在于:所述健耳耳垂下緣(C)所在的水平定位線所在高度即為再造耳廓耳垂的最下緣。

說明書

說明書再造耳廓位置的定位方法
(一)        技術領域
    本發明涉及到先天性小耳畸形、耳廓缺損患者再造耳廓位置的定位,在耳廓重建中的應用,特別涉及一種再造耳廓位置的定位方法。
(二)        背景技術
缺耳是日常生活中的常見疾病,究其原因可分為先天性和后天性兩類,前者多見于先天性外耳發育不良、小耳畸形、無外耳,后者多見于外傷、感染、腫瘤等導致,患者外觀異于常人,易遭受歧視和嘲笑,嚴重影響正常生活,久之易導致嚴重心理疾病,尤其是對于先天性小耳畸形的兒童,患者十分痛苦,修復或再造的愿望十分迫切。
現有技術中,耳廓再造技術有義耳再造、假體再造及自體肋軟骨再造。以往再造的耳廓在安裝中,位置的選擇只能靠目測的方法,沒有成形準確的定位方法,這樣的話再造耳廓的前后、左右、上下位置,很難與鍵側耳廓一致。以往有人用:以眉弓及鼻翼形成的兩條直線向后延伸與乳突前緣直線相交,兩個交點間隔為再造耳廓長軸位置及長度。其大小參照正常人耳,長為5.5~6.5cm、寬為3.0~3.5cm,也只是粗略的定位方法。
現有技術缺點:大部分耳畸形患者同時伴有頜面部發育不全,患側面部狹小、頜面部左右不對稱,如果利用現有技術來定位患側耳廓位置,則會出現較大誤差,影響美觀。
(三)        發明內容
    本發明為了彌補現有技術的不足,提供了一種步驟簡單、操作方便的再造耳廓位置的定位方法。
本發明是通過如下技術方案實現的:
一種再造耳廓位置的定位方法,其特征在于:以健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣三點為一垂直直線為基礎,沿該垂直直線在人的頭部表面畫出該直線所在的冠狀切面的切邊,使人的頭部處于端正的狀態,在人頭部上畫出垂直冠狀切面的健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣所在的水平定位線,該定位線線與切邊的交點即為患側再造耳廓的耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣的固定位置。
本發明利用健耳耳輪腳前緣、耳屏前緣和耳垂前緣三點為一垂直直線以及人的頭部存在冠狀切面的原理,通過在人的頭部表面作圖,標注出耳廓關鍵點位置的方式對再造耳廓進行定位,實現了簡單、快速、準確的定位,提高了定位的準確性和工作效率。
本發明的更優方案為:
所述健耳耳垂下緣所在的水平定位線的所在高度即為再造耳廓耳垂的最下緣,除了對再造耳廓的位置進行進一步定位外,還可根據耳輪腳前緣、耳屏前緣、耳垂前緣和耳垂最下緣的位置對耳朵的大小比例進行確定,保證了再造耳廓選取比例的正確性。
依據本專利技術行再造耳廓定位,可根據不同患者進行個性化定制,使得再造耳廓的位置自然、對稱、美觀,與健側耳廓匹配。
本發明步驟簡單,操作方便,定位準確無誤差,定位過程中對人體沒有損害和影響,所需工具更為容易獲得,適于廣泛推廣應用。
(四)        附圖說明
下面結合附圖對本發明作進一步的說明。
圖1為本發明的定位方式示意圖。
圖中,A耳輪腳前緣,B耳屏前緣,C耳垂下緣,D切邊,E耳垂前緣。
(五)        具體實施方式
附圖為本發明的一種具體實施例。該實施例以健耳耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E三點為一垂直直線為基礎,沿該垂直直線在人的頭部表面畫出該直線所在的冠狀切面的切邊D,使人的頭部處于端正的狀態,在人頭部上畫出垂直冠狀切面的健耳耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E所在的水平定位線,該定位線線與切邊D的交點即為患側再造耳廓的耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E的固定位置;所述健耳耳垂下緣C所在的水平定位線所在高度即為再造耳廓耳垂的最下緣。
在定位的過程中,只要使用較為簡單的畫線工具即可,沿人的頭部作出冠狀切面的切邊,并通過健耳耳輪腳前緣A、耳屏前緣B和耳垂前緣E所在的水平定位線與切邊D的交點確認出相應的位置,操作簡便,準確性高。
對于雙側小耳畸形,可以先再造一側耳廓,然后再根據做好的耳廓用上面的方法定位另一側耳廓的位置即可。
本發明專利解決了耳廓畸形與缺損患者的再造耳廓位置的定位問題,從而解決了耳整形外科中再造耳廓定位難題。

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再造 耳廓 位置 定位 方法
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