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聚焦環和具有該聚焦環的基板處理裝置.pdf

摘要
申請專利號:

CN201210003658.9

申請日:

2012.01.06

公開號:

CN102592936B

公開日:

2015.01.21

當前法律狀態:

授權

有效性:

有權

法律詳情: 授權|||實質審查的生效IPC(主分類):H01J 37/32申請日:20120106|||公開
IPC分類號: H01L21/3065; H01J37/32; H01J37/02 主分類號: H01L21/3065
申請人: 東京毅力科創株式會社
發明人: 山涌純; 輿水地鹽
地址: 日本東京都
優先權: 2011.01.07 JP 2011-002250
專利代理機構: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 代理人: 龍淳
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法律狀態
申請(專利)號:

CN201210003658.9

授權公告號:

102592936B||||||

法律狀態公告日:

2015.01.21|||2012.09.19|||2012.07.18

法律狀態類型:

授權|||實質審查的生效|||公開

摘要

本發明提供一種能夠防止在溫度差大的兩個部件的縫隙中堆積物附著到低溫的部件的聚焦環。聚焦環(25)包圍配置于基板處理裝置(10)的腔室(11)內的晶片(W)的邊緣,內側聚焦環(25a)和外側聚焦環(25b)構成聚焦環(25),內側聚焦環(25a)與晶片(W)鄰接地配置且被冷卻,外側聚焦環(25b)包圍內側聚焦環(25a)且不被冷卻,塊部件(25c)配置于內側聚焦環(25a)和外側聚焦環(25b)之間。

權利要求書

1.一種聚焦環,其包圍配置于基板處理裝置的處理室內的基板的
邊緣,該聚焦環的特征在于,包括:
與所述基板鄰接地配置且被冷卻的內側聚焦環;
包圍該內側聚焦環且不被冷卻的外側聚焦環;和
配置于所述內側聚焦環和所述外側聚焦環的縫隙的石英部件。
2.如權利要求1所述的聚焦環,其特征在于:
所述石英部件暴露于所述處理室內的產生等離子體的處理空間。
3.如權利要求1或2所述的聚焦環,其特征在于:
在所述處理室內配置至少載置所述基板和所述內側聚焦環的載置
臺,
所述石英部件介于所述內側聚焦環和所述載置臺之間。
4.一種基板處理裝置,其包括收容基板的處理室和包圍配置于所
述處理室內的基板的邊緣的聚焦環,該基板處理裝置的特征在于:
所述聚焦環包括:與所述基板鄰接地配置且被冷卻的內側聚焦環;
包圍該內側聚焦環且不被冷卻的外側聚焦環;和配置于所述內側聚焦
環和所述外側聚焦環的縫隙的石英部件。
5.一種基板處理裝置,其包括收容基板的處理室、包圍配置于所
述處理室內的基板的邊緣的聚焦環和載置所述基板和所述聚焦環的載
置臺,該基板處理裝置的特征在于:
所述聚焦環包括:與所述基板鄰接地配置且被冷卻的內側聚焦環;
和包圍該內側聚焦環且不被冷卻的外側聚焦環,
所述載置臺被冷卻,成為比所述內側聚焦環更低溫,
在所述內側聚焦環和所述載置臺的縫隙配置有石英部件。
6.如權利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述石英部件介于所述載置臺中載置所述內側聚焦環的載置面和
所述內側聚焦環之間。
7.如權利要求6所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述石英部件被延伸而配置于所述內側聚焦環和所述外側聚焦環
的縫隙。
8.一種基板處理裝置,其包括收容基板的處理室、包圍配置于所
述處理室內的基板的邊緣的聚焦環、載置所述基板和所述聚焦環的載
置臺和對所述聚焦環與所述載置臺的縫隙供給氣體的氣體供給裝置,
該基板處理裝置的特征在于:
所述聚焦環包括:與所述基板鄰接地配置且被冷卻的內側聚焦環;
和包圍該內側聚焦環且不被冷卻的外側聚焦環,
所述氣體供給裝置,對所述內側聚焦環與所述外側聚焦環的縫隙、
和所述內側聚焦環與所述載置臺的縫隙中的至少一個供給氣體。
9.如權利要求8所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述氣體供給裝置供給的氣體是氧氣。
10.如權利要求8所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述氣體供給裝置供給的氣體是惰性氣體。
11.如權利要求8所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述氣體供給裝置供給的氣體是處理氣體。
12.一種聚焦環,其包圍配置于基板處理裝置的處理室內的基板的
邊緣,該聚焦環的特征在于,包括:
與所述基板鄰接地配置且被冷卻的內側聚焦環;
和包圍該內側聚焦環且不被冷卻的外側聚焦環,
所述內側聚焦環具有暴露于所述處理室內的處理空間且以覆蓋所
述外側聚焦環的一部分的方式突出的薄板狀的突出部。
13.如權利要求12所述的聚焦環,其特征在于:
所述內側聚焦環具有的突出部的厚度是1.7mm以上且2.0mm以
下。
14.一種基板處理裝置,其包括收容基板的處理室和包圍配置于所
述處理室內的基板的邊緣的聚焦環,該基板處理裝置的特征在于:
所述聚焦環包括:與所述基板鄰接地配置且被冷卻的內側聚焦環;
和包圍該內側聚焦環且不被冷卻的外側聚焦環,
所述內側聚焦環具有暴露于所述處理室內的處理空間且以覆蓋所
述外側聚焦環的一部分的方式突出的薄板狀的突出部。

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聚焦 具有 處理 裝置
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